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Surface chemical functionalization of semiconductors and oxides for nanotechnology

用于纳米技术的半导体和氧化物的表面化学功能化

基本信息

批准号：
175167938
负责人：
Dr. Peter Thissen
金额：
--
依托单位：
Department of Materials Science and Engineering
依托单位国家：
德国
项目类别：
Research Fellowships
财政年份：
2010
资助国家：
德国
起止时间：
2009-12-31 至 2011-12-31
项目状态：
已结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/175167938?language=en
关键词：
Surface chemical functionalization semiconductors oxides

项目摘要

Heutzutage ist es zwar nasschemisch etabliert, die Eigenschaften vieler Materialien exakt einzustellen, doch gibt es bei diesen Prozessen immer noch unverstandene Teilschritte und inhärente Limitationen. Häufig werden in Industrie und Medizin sogenannte Selbst Organisierende Monolagen (SAMs), eingesetzt, um z. B. die Haftung zwischen einem Metall und dem aufgetragenen Lack zu verbessern. Das Projekt untersucht SAMs im Gebiet der Mikroelektronik und versucht, ein Verständnis sowohl der Thermodynamik als auch der Kinetik der Oberflächenchemie auf atomarer Ebene herzustellen. Dies wird notwendig sein, um neue Syntheseprozesse von höherer Komplexität vorherzusagen und effizient zu steuern. Zunächst sollen die SAMs nach einer neu entwickelten Methode von Professor Chabal präpariert werden, die dann mit Hilfe der dort zur Verfügung stehenden Untersuchungsmethoden charakterisiert werden. Begleitend sollen die Ergebnisse durch Dichte-Funktional-Theorie (DFT)-Simulationen unterstützt werden. Die neue Präparationsmethode des Gastgebers ermöglicht erstmals eine nasschemische Herstellung von Silicium-Oberflächen, die nicht oxidiert sind, die atomar glatt sind und mit OHGruppen belegt sind. Des Weiteren entsteht durch ein aufgetragenes nano-Muster mit einstellbaren Abständen zwischen den OHGruppen die Möglichkeit, gezielt die Wechselwirkungen zwischen den OHGruppen der Oberfläche und den SAMs zu untersuchen und zu verstehen.

Heutzutage is zwar nasschemisch etabliert，die Eigenschaften vieler Materialialien exakt einzustellen，doch gibt es bei diesen Prozessen immer noch unverstandene Teilschritte und inhärente Limitationen. Häufig韦尔登在工业和医疗领域拥有自主有机单体（SAMs），eingesetzt，um z. B.把金属和拉克放在一起。该项目将在微电子学和电子学领域对SAMs进行研究，其中热力学研究也包括原子动力学研究。他们将不会被发现，一个新的合成方法将使复杂的高复杂性变得更加强大和有效。我们可以用一种新的方法来解决SAM问题，这种方法来自于Chabal教授的韦尔登教授，由他的助手来帮助我们研究韦尔登的特点。首先通过双泛函理论（DFT）-模拟韦尔登方法来解决认知问题。这种新的制备方法首先需要对硅进行化学处理，不氧化，原子发光，并与OHGruppen结合。Des Weiteren entsteht durch ein aufgetragenes nano-Muster mit einstellbaren Abständen zwischen den OHGruppen die Möglichkeit，gezielt die Wechselfenkungen zwischen den OHGruppen der Oberfläche und den SAM zu untersuchen und zu verstehen.