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Nicht-thermischer Abtrags- und Depositionsprozess zur Herstellung von Graphen mit ultrakurz gepulster Laserstrahlung

使用超短脉冲激光辐射生产石墨烯的非热烧蚀和沉积工艺

基本信息

批准号：
210185536
负责人：
Professor Dr. Reinhart Poprawe
金额：
--
依托单位：
Lehrstuhl für Lasertechnik (LLT)
依托单位国家：
德国
项目类别：
Research Grants
财政年份：
2012
资助国家：
德国
起止时间：
2011-12-31 至 2015-12-31
项目状态：
已结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/210185536?language=en
关键词：
Nicht thermischer Abtrags und Depositionsprozess

项目摘要

In dem vorliegenden Vorhaben soll ein durch ultrakurz gepulste Laserstrahlung induzierter, neuartiger Abtrags- und Depositionsprozess für Festkörper mit einer kristallinen Schichtstruktur entwickelt werden. Auf molekularer Ebene soll dabei ein Verständnis für die physikalischen Prozesse dieses Abtrags- und Depositionsprozesses erarbeitet werden. Ange-wendet werden kann dieser nicht-thermische Abtragsprozess auf Materialsysteme, deren Bindungsstärke normal zur Oberfläche sich stark von jener lateral zur Oberfläche gerichteten Bindungsstärke unterscheidet. Beispiele für solche Festkörper sind Graphit und hexagonales Bornitrid. Das große Anwendungspotential und die analytischen Möglichkeiten, die sich aus der elektrischen Leitfähigkeit von Graphenschichten ergeben, begründen die Werkstoffwahl von Graphit als Modellsystem für die Untersuchung und Entwicklung des laserinduzierten nicht-thermischen Abtrags- und Depositionsprozesses in diesem Vorhaben. Basierend auf dem erarbeiteten Prozessverständnis soll ein Prozessfenster für die Deposition von defektfreien, atomdünnen, intakten Graphenschichten auf beliebigen, für die Laserstrahlung transparenten, Substraten durch das laserinduzierte, selektive Aufbrechen der schwachen Bindungskräfte der Graphenschichten untereinander entwickelt werden.

In dem vorliegenden Vorhaben soll ein durch ultrakurz gepulste Laserstrahlung induzierter，neuartiger Abtrags- und Depositionsprozess für Festkörper mit einer kristallinen Schichtstruktur entwickelt韦尔登. Auf molekularer Ebene soll dabei ein Verständnis für die physikalischen Prozesse dieses Abtrags- und Depositionsprozesses erarbeitet韦尔登。在材料系统上进行韦尔登是不可能的，因为通常在上表面进行热处理时，在上表面进行热处理时，热处理是完全不可能的。Beispiele für solche Festkörper sind Graphit und hexagonales Bornitrid.通过对Graphenschichten产生的电致发光的分析，获得了大量的电势和Möglichkeiten分析结果，并将Graphit的工作原理应用于非热吸收和沉积过程的激光工业化的建模系统。Basierend auf dem erarbeiteten Prozessverständnis soll ein Prozessfenster für die Deposition von defektfreien，atomdünnen，intakten Graphenschichten auf beliebigen，für die Laserstrahlung Underrenten，Substraten durch das laserinduzierte，selektive Aufbrechen der schwachen Bindungskräfte der Graphenschichten untereinander韦尔登.