课题基金 / 基金详情

Ultrahochvakuum-Beschichtungsanlage für die Laserpulsabscheidung von Mehrschichtsystemen

Ultrahochvakuum-Beschichtungsanlage für die Laserpulsabscheidung von Mehrschichtsystemen
用于多层系统激光脉冲沉积的超高真空镀膜系统
批准号:
245459398
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2014
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2013-12-31 至 --

项目摘要

项目成果

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
Um den geplanten industriellen Einsatz der im laufenden Forschungsprojekt Spintronik untersuchten und optimierten Schichtstapel zu ermöglichen, soll gemeinsam mit dem Fraunhofer Institut ENAS in Chemnitz und weiteren sächsischen Partnern aus Forschung und Industrie das Verfahren der Laserpulsabscheidung für die Erzeugung von Spintronik-Schichtstapeln qualifiziert werden. Dieses Ziel kann umfassend nur erreicht werden, wenn eine neuartige UHV-PLD-Beschichtungsanlage konzipiert und beschafft wird, die die aufeinander folgende Beschichtung von wenigstens 5 Substraten mit 4 Zoll Durchmesser mit dickenhomogenen, kontaminations- und partikulatfreien Schichtstapeln aus 10 verschiedenen Materialien im Ultrahochvakuum ermöglicht. Die Anlage soll darüber hinaus auch für die Abscheidung von neuartigen Schichtstapeln unter anderem für Verschleißschutz- und tribologische Anwendungen zum Beispiel auf Bauteilen im Motorenbau eingesetzt werden.
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
海外基金