PVD Beschichtungsanlage mit mehreren unabhängigen Targets

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Das hier beantragte physical vapor deposition (PVD) basierte Mehrtarget-Beschichtungssystem verfolgt zwei Hauptziele. Zum einen ermöglicht eine solche Beschichtungsanlage, die über mehrere unabhängig voneinander kontrollierbare Targets verfügt, die Synthese sehr komplexer mehrlagiger Schichtsysteme wie auch entsprechender gegebenenfalls gradierter Kompositmaterialien. Diese Option in Kombination mit der Tatsache, dass eines der Targets als relativ neuartige Hochleistungsimpuls-Magnetronsputter-Quelle ausgelegt werden soll, eröffnet somit völlig neue Beschichtungsmöglichkeiten, die aktuelle Arbeiten am Lehrstuhl für Oberflächen- und Werkstofftechnologie in idealer Weise ergänzen bzw. erweitern und wie sie zur Zeit an der Universität Siegen so nicht vorhanden sind. Zum anderen ist das System so dimensioniert, dass es als Brücke zwischen der grundlagenorientierten Forschung und anwendungsnaher Beschichtungstechnik fungieren kann. Es kann somit dazu genutzt werden, bereits vorhandene Prozesse auf zu skalieren oder aber neuartige Prozesse für Substrate industrieller Relevanz zu etablieren. Der Bereich der anwendungsnahen Forschung würde hierdurch potentiell signifikant ausgebaut und verstärkt werden.