PVD Beschichtungsanlage mit mehreren unabhängigen Targets

具有多个独立靶材的 PVD ​​涂层系统

• 批准号: 249023093
• 金额: --
• 依托单位: Universität Siegen
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Major Research Instrumentation
• 财政年份: 2013
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2012-12-31 至 无数据
• 项目状态: 未结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/249023093?language=en
• 关键词: PVD; Beschichtungsanlage; mit; mehreren; unabh

Das hier beantragte physical vapor deposition (PVD) basierte Mehrtarget-Beschichtungssystem verfolgt zwei Hauptziele. Zum einen ermöglicht eine solche Beschichtungsanlage, die über mehrere unabhängig voneinander kontrollierbare Targets verfügt, die Synthese sehr komplexer mehrlagiger Schichtsysteme wie auch entsprechender gegebenenfalls gradierter Kompositmaterialien. Diese Option in Kombination mit der Tatsache, dass eines der Targets als relativ neuartige Hochleistungsimpuls-Magnetronsputter-Quelle ausgelegt werden soll, eröffnet somit völlig neue Beschichtungsmöglichkeiten, die aktuelle Arbeiten am Lehrstuhl für Oberflächen- und Werkstofftechnologie in idealer Weise ergänzen bzw. erweitern und wie sie zur Zeit an der Universität Siegen so nicht vorhanden sind. Zum anderen ist das System so dimensioniert, dass es als Brücke zwischen der grundlagenorientierten Forschung und anwendungsnaher Beschichtungstechnik fungieren kann. Es kann somit dazu genutzt werden, bereits vorhandene Prozesse auf zu skalieren oder aber neuartige Prozesse für Substrate industrieller Relevanz zu etablieren. Der Bereich der anwendungsnahen Forschung würde hierdurch potentiell signifikant ausgebaut und verstärkt werden.

在物理气相沉积（PVD）的基础上，建立了Mehrtarget-Beschichtungssystem。Zum einen ermöglicht eine solche Beschichtungsanlage, die ber mehrere unabhängig voneinander kontrollibare Targets verf<e:1>, die Synthese sehr komplexer mehrlagiger Schichtsysteme auch entsprechender gegebenenfalls gradierter Kompositmaterialien。Diese Option in combination, dass eines der Targets, dass eines der Targets，相对neuartige hochleistungsimpuls - magnetronsputers - quelle ausgelegt werden soll， eröffnet someit völlig neue Beschichtungsmöglichkeiten, ddie aktuelle Arbeiten am Lehrstuhl f<e:1> Oberflächen- und Werkstofftechnologie in idealer Weise ergänzen bzw。erweiteren和derderUniversität Siegen so night vorhanden sind。Zum anderen ist das System so dimensioniert， desass es als bricke zwischen der grundlagenenorientierten Forschung和andwendungsnaher Beschichtungstechnik fungieren kann。这是一种新型的加工工艺，它能使加工工艺更先进，加工工艺更先进，加工工艺更先进，加工工艺更先进。德语德语德语德语德语德语德语德语德语德语德语德语德语德语德语德语。

项目成果

Next Generation of SRF-Guns: Low Secondary Electron Yield Based on a Thin Film Approach

下一代 SRF 枪：基于薄膜方法的低二次电子产率

• DOI: 10.18429/jacow-srf2015-tupb047
• 作者: C. Schlemper;M. Vogel;X. Jiang
• 通讯作者: X. Jiang