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PVD/PECVD-HPPMS-Beschichtungsanlage

PVD/PECVD-HPPMS镀膜系统

基本信息

批准号：
164958079
负责人：
金额：
--
依托单位：
Technische Universität Clausthal
依托单位国家：
德国
项目类别：
Major Research Instrumentation
财政年份：
2010
资助国家：
德国
起止时间：
2009-12-31 至无数据
项目状态：
未结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/164958079?language=en
关键词：
PVD PECVD HPPMS Beschichtungsanlage

项目摘要

Antragssteller ist der Leiter der neu gegründeten Arbeitsgruppe "Oberflächentechnologie" des Arbeitskreises 8 "Werkstoff- und Funktionsoptimierung durch Prozessfolge" (kurz AK8) im 2008 gegründeten und sich im Aufbau befindlichen Clausthaler Zentrums für Materialtechnik (CZM). Die beantragte Anlage dient als Erstausstattung für das CZM und muss hinsichtlich der Entwicklung hoch beanspruchbarer funktionaler Beschichtungen den aus wissenschaftlicher Sicht fortschrittlichsten Stand der Technik widerspiegeln, so dass sie sich sowohl für die Grundlagenforschung, als auch für die industrielle Serienentwicklung eignet. Die geplante Ausrichtung der AG "Oberflächentechnologie" ist die Entwicklung neuer und die Optimierung bestehender metallischer und metalloider Hart-Schichtsysteme für den Verschleißschutz mittels neuester Hybridbeschichtungstechnologien, welche durch die Verwendung von reaktiven Gasen und unterschiedlichen Verdampfungsarten neue MMS (multi material structures)-Schichtsysteme generieren. Um der zukünftig weltweit überproportional ansteigenden Bedeutung dieses Forschungsgebietes entsprechen zu können, muss die Anlage mit der High-Power-Pulse Magnetron-Sputter-Technologie (HPPMS) ausgestattet sein, welche es durch die ionenreiche aber dropletfreie Beschichtung ermöglicht, neue Applikationssysteme zu entwickeln. Die Anlage kombiniert die PVD- und CVD-Technologie mit einer integrierten Analyse- und Prozesstechnik auf einem bisher weltweit einmaligen hohen Niveau. Die Forschungsergebnisse des CZM werden den ansässigen Unternehmen in gemeinschaftlichen Projekten die notwendige Unterstützung liefern.

Antragssteller ist der Leiter der neu gegründeten Arbeitsgruppe“Oberflächentechnologie”des Arbeitskreises 8“Werkstoff- und Funktionsoptimierung durch Prozessfolge”（kurz AK 8）im 2008 gegründeten und sich im Aufbau befindlichen Clausthaler Zentrums für Materialtechnik（CZM）. Die beantragte Anlage dient als Erstausstattung für das CZM and muss hinsichtlich der Entwicklung hoch beanspruchbarer funktionaler Beschichtungen den aus wissenschaftlicher Sicht Stand der Technik widerspiegeln，so dass sie sich sowohl für die Grundlagenforschung，als auch für die industrielle Serienentwicklung eignet. Die geplante Ausrichtung der AG“Oberflächentechnologie”ist die Entwicklung neuer und die Optimierung bestehender metallischer und metalider Hart-Schichtsysteme für den Verschleißschutz mittels neuester Hybridbeschichtungstechnologien，welche durch die Verwendung von reaktiven Gasen und untershedlichen Verdampfungsarten neue MMS（multi-material structures）-Schichtsysteme generen.为了使这种超比例的世界变化成为可能，必须采用高功率脉冲磁控溅射技术（HPPMS）来建立一个新的无液滴溅射系统。PVD和CVD技术的结合使用使Niveau成为一个更好的世界。CZM的研究韦尔登将在共同的项目中解决未解决的问题。