PVD/PECVD-HPPMS-Beschichtungsanlage

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Antragssteller ist der Leiter der neu gegründeten Arbeitsgruppe "Oberflächentechnologie" des Arbeitskreises 8 "Werkstoff- und Funktionsoptimierung durch Prozessfolge" (kurz AK8) im 2008 gegründeten und sich im Aufbau befindlichen Clausthaler Zentrums für Materialtechnik (CZM). Die beantragte Anlage dient als Erstausstattung für das CZM und muss hinsichtlich der Entwicklung hoch beanspruchbarer funktionaler Beschichtungen den aus wissenschaftlicher Sicht fortschrittlichsten Stand der Technik widerspiegeln, so dass sie sich sowohl für die Grundlagenforschung, als auch für die industrielle Serienentwicklung eignet. Die geplante Ausrichtung der AG "Oberflächentechnologie" ist die Entwicklung neuer und die Optimierung bestehender metallischer und metalloider Hart-Schichtsysteme für den Verschleißschutz mittels neuester Hybridbeschichtungstechnologien, welche durch die Verwendung von reaktiven Gasen und unterschiedlichen Verdampfungsarten neue MMS (multi material structures)-Schichtsysteme generieren. Um der zukünftig weltweit überproportional ansteigenden Bedeutung dieses Forschungsgebietes entsprechen zu können, muss die Anlage mit der High-Power-Pulse Magnetron-Sputter-Technologie (HPPMS) ausgestattet sein, welche es durch die ionenreiche aber dropletfreie Beschichtung ermöglicht, neue Applikationssysteme zu entwickeln. Die Anlage kombiniert die PVD- und CVD-Technologie mit einer integrierten Analyse- und Prozesstechnik auf einem bisher weltweit einmaligen hohen Niveau. Die Forschungsergebnisse des CZM werden den ansässigen Unternehmen in gemeinschaftlichen Projekten die notwendige Unterstützung liefern.