Development of silicon optical device for sensitivity improvement of the next generation CMB space mission
Development of silicon optical device for sensitivity improvement of the next generation CMB space mission
开发硅光学器件以提高下一代CMB太空任务的灵敏度
批准号：
20K14506
负责人：
Hasebe Takashi
金额：
$2.58万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2020
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
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Fabrication of three-layer silicon antireflection structures in200?450??GHz using deep reactive ion etching
200?450?GHz深反应离子刻蚀三层硅减反射结构的制作
200?450?GHz深反应离子刻蚀三层硅减反射结构的制作
DOI：
10.1364/ao.441969
发表时间：
2021
期刊：
Applied Optics
影响因子：
1.9
作者：
[Hasebe Takashi, Hayashi Tasuku, Shohmitsu Yoshinori, Nitta Tom, Matsuo Hiroshi, Sekimoto Yutato]
通讯作者：
Sekimoto Yutato
曲面エッチング加工を用いたサブミリ波 観測用広帯域シリコンレンズの開発
利用弯曲蚀刻工艺开发用于亚毫米波观测的宽带硅透镜
利用弯曲蚀刻工艺开发用于亚毫米波观测的宽带硅透镜
DOI：
--
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
--
作者：
[長谷部孝, 佐々木実]
通讯作者：
佐々木実
多段ドライエッチングを用いたミリ波観測用シリコン素子の反射防止加工の開発
利用多级干法蚀刻进行毫米波观测用硅元件的防反射加工的开发
利用多级干法蚀刻进行毫米波观测用硅元件的防反射加工的开发
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[長谷部孝, 林佑, 正光義則, 新田冬夢, 松尾宏, 関本裕太郎]
通讯作者：
関本裕太郎
多段ドライエッチングを用いたサブミリ波 観測用広帯域シリコン光学素子の開発
利用多级干法刻蚀开发用于亚毫米波观测的宽带硅光学元件
利用多级干法刻蚀开发用于亚毫米波观测的宽带硅光学元件
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[長谷部孝, 林佑, 正光義則, 新田冬夢, 松尾宏, 関本裕太郎]
通讯作者：
関本裕太郎
深掘りドライエッチング加工を用いたミリ波観測用広帯域シリコンフィルターの開発
利用深度干法刻蚀工艺开发用于毫米波观测的宽带硅滤波器
利用深度干法刻蚀工艺开发用于毫米波观测的宽带硅滤波器
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Y. Shigekawa, T. Yokokita, Y. Komori, and H. Haba, 長谷部 孝]
通讯作者：
長谷部 孝
共 6 条
Identification of genes specific to the intestinal epithelial stem cells and their functional analysis by making use of transgenic frogs
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批准号：17K07475
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.24万
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财政年份：2017
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负责人：Hasebe Takashi
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依托单位：
Origin of the adult epithelial stem cell in the Xenopus laevis intestine and the role of Notch signaling in the stem cell regulation
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批准号：25440160
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.41万
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财政年份：2013
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负责人：Hasebe Takashi
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依托单位：
海外基金