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光電融合LSIへ向けた絶縁膜上におけるGe系光学材料の結晶成長と光電デバイス応用
用于光电集成LSI和光电器件应用的绝缘膜上Ge基光学材料的晶体生长
基本信息
- 批准号：23K13370
- 负责人：
- 金额：$ 3万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
- 财政年份：2023
- 资助国家：日本
- 起止时间：2023-04-01 至 2026-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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松村 亮其他文献
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衬底加热沉积对掺锑Ge垂直pn二极管电性能的影响第26电子器件接口技术研究组-材料、工艺和器件特性的物理。
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- 作者：
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深田 直樹
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