Study on growth of nanoparticle in spatio-temporal electric field fluctuation
时空电场波动中纳米颗粒的生长研究
基本信息
- 批准号:19K03809
- 负责人:
- 金额:$ 2.83万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2019
- 资助国家:日本
- 起止时间:2019-04-01 至 2022-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(29)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Particle-In-Cellモンテカルロ衝突モデルによる容量結合型Arプラズマにおける下部バイアス電圧印加シミュレーション
使用细胞内粒子蒙特卡罗碰撞模型模拟电容耦合 Ar 等离子体中的较低偏压应用
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:阿部滉平;山本晃大;長尾伊織;大高真寛;山下大輔;鎌滝晋礼;奥村賢直;板垣奈穂;古閑一憲;白谷正治
- 通讯作者:白谷正治
Study of effect of amplitude modulated discharge on growth of nanoparticles in TEOS plasma
调幅放电对TEOS等离子体中纳米颗粒生长影响的研究
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M.Shiratani;K. Kamataki;K. Abe;A. Yamamoto;I. Nagao;M. Otaka;D. Yamashita;N. Itagaki;T. Okumura;K. Koga
- 通讯作者:K. Koga
Developing Prediction of Key Plasma Processing Parameter from Small Data of Experimental Results by Machine Learning Method
通过机器学习方法从实验结果的小数据中预测关键等离子体处理参数
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Kamataki;R. Iwamoto;S. Okunaga;D. Yamashita;N. Itagaki;K. Koga;M. Shiratani
- 通讯作者:M. Shiratani
Investigation of relationship between growth of nanoparticle and plasma generation due to amplitude modulated discharge voltage in TEOS plasma
研究 TEOS 等离子体中调幅放电电压引起的纳米粒子生长与等离子体产生之间的关系
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Kunihiro Kamataki;Kohei Abe;Akihiro Yamamoto;Iori Nagao;Michihiro Otaka;Daisuke Yamashita;Naho Itagaki;Kazunori Koga;Masaharu Shiratani
- 通讯作者:Masaharu Shiratani
Effect of rf bias on properties of amorphous silicon oxide films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition
射频偏压对等离子体增强化学气相沉积非晶氧化硅薄膜性能的影响
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Akihiro Yamamoto;Kohei Abe;Iori Nagao;Michihiro Otaka;Daisuke Yamashita;Kunihiro Kamataki;Takamasa Okumura;Naho Itagaki;Kazunori Koga1;Masaharu Shiratani
- 通讯作者:Masaharu Shiratani
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KAMATAKI Kunihiro其他文献
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