Development of high-frequency devices using GeSiSn/GeSn quantum wells
利用GeSiSn/GeSn量子阱开发高频器件
基本信息
- 批准号:19K04487
- 负责人:
- 金额:$ 2.83万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2019
- 资助国家:日本
- 起止时间:2019-04-01 至 2022-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(8)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Effects of Low-Temperature GeSn Buffer Layers on Sn Surface Segregation During GeSn Epitaxial Growth
- DOI:10.1007/s13391-019-00179-y
- 发表时间:2019-11
- 期刊:
- 影响因子:2.4
- 作者:T. Tsukamoto;N. Hirose;A. Kasamatsu;T. Matsui;Y. Suda
- 通讯作者:T. Tsukamoto;N. Hirose;A. Kasamatsu;T. Matsui;Y. Suda
スパッタエピタキシー法を用いたGe/GeSiSnヘテロ構造形成
使用溅射外延方法形成Ge/GeSiSn异质结构
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Keiji Tsubaki;Atsushi Tsurumaki-Fukuchi;Yasuo Takahashi;Takayoshi Katase;Toshio Kamiya;Masashi Arita;塚本貴広,広瀬信光,笠松章史,松井敏明,須田良幸
- 通讯作者:塚本貴広,広瀬信光,笠松章史,松井敏明,須田良幸
Direct Growth of Patterned Ge on Insulators Using Graphene
- DOI:10.1021/acs.jpcc.1c03567
- 发表时间:2021-06
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Tsukamoto;N. Hirose;A. Kasamatsu;T. Matsui;Y. Suda
- 通讯作者:T. Tsukamoto;N. Hirose;A. Kasamatsu;T. Matsui;Y. Suda
Lattice-matched GeSiSn/Ge double-barrier resonant tunneling diodes
晶格匹配GeSiSn/Ge双势垒谐振隧道二极管
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Takahiro Tsukamoto;Shota Kurihara;Nobumitsu Hirose;Akifumi Kasamatsu;Toshiaki Matsui;Yoshiyuki Suda
- 通讯作者:Yoshiyuki Suda
グラフェンを用いた絶縁膜上におけるGe選択形成技術
使用石墨烯的绝缘膜Ge选择性形成技术
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Takahiro Tsukamoto;Nobumitsu Hirose;Akifumi Kasamatsu;Toshiaki Matsui;Yoshiyuki Suda;塚本 貴広,広瀬 信光,笠松 章史,松井 敏明,須田 良幸
- 通讯作者:塚本 貴広,広瀬 信光,笠松 章史,松井 敏明,須田 良幸
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
TSUKAMOTO TAKAHIRO其他文献
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
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- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
Postdoctoral Fellowships
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572430-2022 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
University Undergraduate Student Research Awards
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- 批准号:
22K04949 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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$ 2.83万 - 项目类别:
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