Development of novel cleavage technique of chemically strengthened glass using nano-precipitates formed by solid-state ion-exchange method
利用固态离子交换法形成的纳米沉淀物开发化学强化玻璃的新型劈裂技术
基本信息
- 批准号:18K18800
- 负责人:
- 金额:$ 4.08万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
- 财政年份:2018
- 资助国家:日本
- 起止时间:2018-06-29 至 2020-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(3)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
金/ガラス陽極接合界面への逆電圧印加による亀裂生成と金移動に関する現象の解明とガラス加工への応用
通过向金/玻璃阳极接合界面施加反向电压来阐明与裂纹形成和金迁移相关的现象及其在玻璃加工中的应用
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Shibata;J. Sasano;M. Nagai;川村拓史,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇
- 通讯作者:川村拓史,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇
金/ガラス陽極接合界面への逆電圧印加による亀裂生成と金の移動を利用したガラス分離加工法の提案
通过向金/玻璃阳极接合界面施加反向电压,利用裂纹产生和金移动的玻璃分离加工方法的提案
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Masaki Michihata;Yumeki Kobayashi;Bohuai Chu;Kiyoshi Takamasu;Satoru Takahashi;川村拓史,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇
- 通讯作者:川村拓史,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇
金/ガラス陽極接合界面への逆電圧印加による亀裂生成および金の移動現象の解明
通过向金/玻璃阳极键合界面施加反向电压来阐明裂纹形成和金迁移现象
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Masaki Michihata;Zheng Zhao;Kiyoshi Takamasu;Satoru Takahashi;川村拓史,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇
- 通讯作者:川村拓史,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇
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Matsusaka Souta其他文献
2方向レーザ照射によるガラス内部での金属球の分裂
双向激光照射玻璃内金属球的分裂
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Fukushima Shunta;Hidai Hirofumi;Matsusaka Souta;Chiba Akira;Morita Noboru;今関太一,西岡宣泰,比田井洋史,松坂壮太,千葉明,森田昇 - 通讯作者:
今関太一,西岡宣泰,比田井洋史,松坂壮太,千葉明,森田昇
SEM 内スクライブ装置によるホイール割断時の工具接触部近傍の詳細観察
使用SEM内部划线装置详细观察砂轮切削过程中刀具接触区域附近的情况
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Imai Kentaro;Saito Masahiro;Matsusaka Souta;Matsumoto Yuichiro;Hidai Hirofumi;Chiba Akira;Morita Noboru;今井健太郎,浅利朋生,松本祐一郎,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇;朝緑紗希,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇;小川佑太,松本祐一郎,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇 - 通讯作者:
小川佑太,松本祐一郎,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇
炭素繊維表面に析出させるCNTの本数と径に及ぼすパルス電解Niめっきの影響
脉冲电解镀镍对碳纤维表面沉积碳纳米管数量和直径的影响
- DOI:
- 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Sawafuji Arata;Hidai Hirofumi;Matsusaka Souta;Chiba Akira;Morita Noboru;京山周平,中山裕喜,川口正隆,渡辺公貴,田中和人 - 通讯作者:
京山周平,中山裕喜,川口正隆,渡辺公貴,田中和人
Laser heating conditions for copper sphere implantation into borosilicate glass
硼硅酸盐玻璃中铜球植入的激光加热条件
- DOI:
10.1016/j.optlastec.2021.107494 - 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Fukushima Shunta;Hidai Hirofumi;Matsusaka Souta;Chiba Akira;Morita Noboru - 通讯作者:
Morita Noboru
有限要素法を用いたホイール割断におけるガラス内部の応力解析
使用有限元法分析车轮破碎过程中玻璃内部的应力
- DOI:
- 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Imai Kentaro;Saito Masahiro;Matsusaka Souta;Matsumoto Yuichiro;Hidai Hirofumi;Chiba Akira;Morita Noboru;今井健太郎,浅利朋生,松本祐一郎,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇;朝緑紗希,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇;小川佑太,松本祐一郎,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇;小川佑太,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇;今井健太郎,松本祐一郎,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇 - 通讯作者:
今井健太郎,松本祐一郎,松坂壮太,比田井洋史,千葉明,森田昇
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Control of shape and position of metal nanoprecipitates in glass and engineering applications
玻璃和工程应用中金属纳米沉淀物形状和位置的控制
- 批准号:
20K04190 - 财政年份:2020
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Formation process of metal precipitation layer in glass substrate by solid-state ion-exchange method, and application to fine electrical wiring
利用固态离子交换法在玻璃基板上形成金属析出层的方法及其在精细电气布线中的应用
- 批准号:
15K05712 - 财政年份:2015
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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高電圧印加界面顕微光応答法によるパワー素子用電極エッジの電界集中の2次元的解明
使用高压施加界面微光响应方法二维阐明功率器件电极边缘的电场集中
- 批准号:
24K07558 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
電圧印加による単結晶SiおよびGeの低温変形メカニズム解明
通过施加电压阐明单晶 Si 和 Ge 的低温变形机制
- 批准号:
24K01361 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
金/ガラスへの電圧印加による亀裂形成・金移動現象の解明およびガラス加工への展開
阐明由于对金/玻璃施加电压以及应用于玻璃加工而导致的裂纹形成和金迁移现象
- 批准号:
22K20420 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
電圧印加による複合膜界面における磁気層間結合の制御手法の確立
施加电压控制复合薄膜界面磁层间耦合方法的建立
- 批准号:
20J10749 - 财政年份:2020
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
電圧印加硬X線光電子分光法による電極/分子界面の伝導機構の解明
使用施加电压的硬 X 射线光电子能谱阐明电极/分子界面的传导机制
- 批准号:
20027015 - 财政年份:2008
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
直流高電圧印加による超臨界流体の流動特性の解明
通过施加高直流电压阐明超临界流体的流动特性
- 批准号:
19656205 - 财政年份:2007
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
高電圧印加によるガラス表面へのサブミクロン構造誘起
施加高电压在玻璃表面感应亚微米结构
- 批准号:
18760507 - 财政年份:2006
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
電圧印加によるシリコン表面の親疎水変化を利用したマイクロ/ナノアクチュエータ
利用硅表面因施加电压而发生亲水和疏水变化的微/纳米致动器
- 批准号:
15686008 - 财政年份:2003
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
電圧印加に伴う金属/ガラス界面での物質移動と界面組織の変化
由于施加电压而导致金属/玻璃界面处的传质和界面结构发生变化
- 批准号:
14750587 - 财政年份:2002
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
電圧印加エピタキシャル成長法による分子配向制御法の開発
开发利用电压外延生长法的分子取向控制方法
- 批准号:
09750017 - 财政年份:1997
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)