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Challenge to create catalytic tool without any metallic elements

挑战创造不含任何金属元素的催化工具

基本信息

批准号：
18K18808
负责人：
Arima Kenta
金额：
$ 3.99万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
起止时间：
2018-06-29 至 2021-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（28）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Fundamental Properties for Enhanced Etching of Ge Surfaces in Water Assisted by Single Sheets of Reduced Graphene Oxide

单片还原氧化石墨烯在水中增强蚀刻 Ge 表面的基本特性

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Hirano;Y. Nakata;H. Yamashita;S. Li;K. Kawai;K. Yamamura and K. Arima
通讯作者：
K. Yamamura and K. Arima

Ge表面におけるグラフェン・アシストエッチングの基礎研究～エッチング速度の温度依存性と活性化エネルギーの評価～

Ge表面石墨烯辅助刻蚀的基础研究 - 刻蚀速率和活化能的温度依赖性评估 -

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
平野智暉;中田裕己;山下裕登;李韶賢;川合健太郎;山村和也;有馬健太
通讯作者：
有馬健太

アンモニア還元グラフェンを援用した化学エッチング法－Ge表面上へのトレンチ構造の形成－

使用氨还原石墨烯的化学蚀刻方法-在Ge表面形成沟槽结构-

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
三栗野諒;小笠原歩見;平野智暉;川合健太郎;山村和也;有馬健太
通讯作者：
有馬健太

微小な剥離グラフェンシート上での長方形状パターンのSTM観察

STM 观察微观剥离石墨烯片上的矩形图案

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
李君寰;李韶賢;稲垣耕司;川合健太郎;山村和也;有馬健太
通讯作者：
有馬健太

Observations of chemically reduced graphene oxide on atomic scale by scanning tunneling microscopy

通过扫描隧道显微镜在原子尺度上观察化学还原氧化石墨烯

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
李韶賢;平野智暉;川合健太郎;山村和也;有馬健太
通讯作者：
有馬健太

DOI：
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作者：
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作者：
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Arima Kenta其他文献

Formation of Etch Pits on Germanium Surfaces Loaded with Reduced Graphene Oxide in Water

水中负载还原氧化石墨烯的锗表面蚀刻坑的形成

DOI：
10.1149/07704.0127ecst
发表时间：
2017
期刊：
ECS Transactions
影响因子：
0
作者：
Nakade Kazuki;Hirano Tomoki;Li Shaoxian;Saito Yusuke;Mori Daichi;Morita Mizuho;Kawai Kentaro;Arima Kenta
通讯作者：
Arima Kenta

Reactivity of Water Vapor with Ultrathin GeO2/Ge and SiO2/Si Structures Investigated by Near-Ambient-Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy

近常压 X 射线光电子能谱研究水蒸气与超薄 GeO2/Ge 和 SiO2/Si 结构的反应性

DOI：
10.1149/08002.0131ecst
发表时间：
2017
期刊：
ECS Transactions
影响因子：
0
作者：
Arima Kenta;Hosoi Takuji;Watanabe Heiji;Crumlin Ethan J
通讯作者：
Crumlin Ethan J

Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing

等离子辅助抛光中抛光压力和滑动速度对单晶金刚石材料去除机理的影响

DOI：
10.1016/j.diamond.2022.108899
发表时间：
2022
期刊：
Diamond and Related Materials
影响因子：
4.1
作者：
Liu Nian;Sugimoto Kentaro;Yoshitaka Naoya;Yamada Hideaki;Sun Rongyan;Kawai Kentaro;Arima Kenta;Yamamura Kazuya
通讯作者：
Yamamura Kazuya

Novel highly-efficient and dress-free polishing technique with plasma-assisted surface modification and dressing

新型高效免修整抛光技术，采用等离子体辅助表面改性和修整

DOI：
10.1016/j.precisioneng.2021.05.003
发表时间：
2021
期刊：
Precision Engineering
影响因子：
0
作者：
Sun Rongyan;Nozoe Atsunori;Nagahashi Junji;Arima Kenta;Kawai Kentaro;Yamamura Kazuya
通讯作者：
Yamamura Kazuya