Research on high performance flexible thermoelectric device focusing on heat transport in amorphous oxide semiconductor
Research on high performance flexible thermoelectric device focusing on heat transport in amorphous oxide semiconductor
以非晶氧化物半导体热传输为重点的高性能柔性热电器件研究
批准号：
19H02601
负责人：
Uraoka Yukiharu
金额：
$11.15万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
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Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization of A-Si Thin Films on Polyimide Using a Heatsink Layer Embedded in the Buffer SiO2
使用嵌入缓冲 SiO2 中的散热层对聚酰亚胺上的 A-Si 薄膜进行连续波激光横向结晶
使用嵌入缓冲 SiO2 中的散热层对聚酰亚胺上的 A-Si 薄膜进行连续波激光横向结晶
DOI：
10.1007/s11664-021-08751-9
发表时间：
2021
期刊：
Journal of ELECTRONIC MATERIALS
影响因子：
2.1
作者：
[Nobuo Sasaki, Muhammad Arif, Yukiharu Uraoka, Jun Gotoh, Shigeto Sugimoto]
通讯作者：
Shigeto Sugimoto
DOI：
10.1021/acsaelm.9b00844
发表时间：
2020-02
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yuki Hashima;Takanori Takahashi;Y. Ishikawa;Y. Uraoka]
通讯作者：
Yuki Hashima;Takanori Takahashi;Y. Ishikawa;Y. Uraoka
DOI：
10.1016/j.apsusc.2020.146791
发表时间：
2020-10-15
期刊：
APPLIED SURFACE SCIENCE
影响因子：
6.7
作者：
[Felizco, Jenichi Clairvaux, Uenuma, Mutsunori, Uraoka, Yukiharu]
通讯作者：
Uraoka, Yukiharu
Film TEG with Controlled Heat Flow
具有受控热流的薄膜 TEG
具有受控热流的薄膜 TEG
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Mutsunori Uenuma, Yukiharu Uraoka]
通讯作者：
Yukiharu Uraoka
Hot Carrier Degradation in High Mobility Metal Oxide Thin Film Transistors
高迁移率金属氧化物薄膜晶体管中的热载流子退化
高迁移率金属氧化物薄膜晶体管中的热载流子退化
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yukiharu Uraoka, Takanori Takahashi, Kahori Kise, Juan Paolo Bermundo, Mami Fujii, Mutsunori Uenuma, Yasuaki Ishikawa]
通讯作者：
Yasuaki Ishikawa
共 18 条
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