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Computational study of pattern formation process in scale-boundary region
尺度边界区域格局形成过程的计算研究
基本信息
- 批准号：15K13978
- 负责人：
- 金额：$ 2.5万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份：2015
- 资助国家：日本
- 起止时间：2015-04-01 至 2018-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（26）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Molecular dynamics simulation of pattern formation in electron beam lithography
电子束光刻图案形成的分子动力学模拟
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Akihiro Toya;Yoshihiro Masui;Mitsutoshi Sugawara;Tomoaki Maeda;Masahiro Ono;Yoshitaka Murasaka;Atsushi Iwata;and Takamaro Kikkawa;M. Yasuda
- 通讯作者：M. Yasuda
Multiscale Simulation of Pattern Formation in Electron Beam Lithography
电子束光刻中图案形成的多尺度模拟
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. Hitomi;H. Kawata;Y. Hirai and M. Yasuda
- 通讯作者：Y. Hirai and M. Yasuda
Stochastic simulation of UV-curing process in nanoimprint lithography: Pattern size and shape effects in sub-50 nm
纳米压印光刻中 UV 固化过程的随机模拟：50 nm 以下的图案尺寸和形状效应
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：M. Koyama;M. Shirai;H. Kawata;Y. Hirai and M. Yasuda
- 通讯作者：Y. Hirai and M. Yasuda
Impact of Mold Cavity Size on Resist Pattern Shape in Nanoimprint Lithography: Molecular Dynamics Study
纳米压印光刻中模腔尺寸对抗蚀剂图案形状的影响：分子动力学研究
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：R. Sakata;H. Kawata;Y. Hirai and M. Yasuda
- 通讯作者：Y. Hirai and M. Yasuda
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YASUDA MASAAKI其他文献
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