Study of sub-10nm alignment by fluorescence interference fringes
Study of sub-10nm alignment by fluorescence interference fringes
荧光干涉条纹亚10nm对准研究
批准号：
26630016
负责人：
NAKAGAWA Masaru
金额：
$2.5万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2016-03-31
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ナノインプリントリソグラフィにおけるSub-20nmでの課題
纳米压印光刻的 20 纳米以下挑战
纳米压印光刻的 20 纳米以下挑战
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[K. Nakamoto, T. Iizuka, Y. Takeuchi, 中川 勝, 中川勝]
通讯作者：
中川勝
業績リスト
成就一览
成就一览
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
界面機能分子制御に立脚したナノインプリントリソグラフィ
基于界面功能分子控制的纳米压印光刻
基于界面功能分子控制的纳米压印光刻
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[K. Nakamoto, T. Iizuka, Y. Takeuchi, 中川 勝, 中川勝, 中川勝]
通讯作者：
中川勝
Investigation of the minimum UV-exposure period for high-throughput UV nanoimprinting
高通量紫外纳米压印的最短紫外暴露时间的研究
高通量紫外纳米压印的最短紫外暴露时间的研究
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yota Ishito, Masaru Nakagawa]
通讯作者：
Masaru Nakagawa
光ナノインプリントプロセスの高速化を目指した最短成型時間に関する考察
加速光学纳米压印工艺的最短成型时间的思考
加速光学纳米压印工艺的最短成型时间的思考
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[石戸洋太, 中川勝]
通讯作者：
中川勝
共 9 条
Design and Operation of Management Accounting System for Management of Local company in overseas country.
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批准号：23330150
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额：$10.73万
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财政年份：2011
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负责人：NAKAGAWA Masaru
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依托单位：
Study of polymer thin films for processing of metal thin films in thermal nanoimprint lithography
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批准号：20350103
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额：$11.56万
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财政年份：2008
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负责人：NAKAGAWA Masaru
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依托单位：
海外基金