Study of polymer thin films for processing of metal thin films in thermal nanoimprint lithography

热纳米压印光刻中金属薄膜加工用聚合物薄膜的研究

基本信息

  • 批准号:
    20350103
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.56万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2008
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2008 至 2010
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Thermoplastic polymer thin films showing resist property suitable for wet processing of metal thin films on substrates were studied for scientific understanding of reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography using photoreactive adsorbed monolayers which form chemical covalent bonds at resist polymer and metal interface. We demonstrated the kind of thermoplastic polymers effectively grafted to photoreactive groups, the kind of thermoplastic polymer and its optimum molecular weight suitable for metal wet etching and electrodeposition, molecular-weight-dependent permeation behavior of etching aqueous solution through resist polymer thin film, and usefulness of fluorescent resist to visualize patterned shapes of resist thin films by thermal nanoimprinting.
研究了热塑性聚合物薄膜的抗蚀剂特性,其适合于基底上的金属薄膜的湿法加工,以科学地理解反应性单层辅助的热纳米压印光刻,该光刻使用在抗蚀剂聚合物和金属界面处形成化学共价键的光反应性吸附单层。我们证明了种热塑性聚合物有效地接枝到光反应基团,种热塑性聚合物和其最佳分子量适合于金属湿法蚀刻和电沉积,蚀刻水溶液通过抗蚀剂聚合物薄膜的分子量依赖的渗透行为,和有用的荧光抗蚀剂可视化图案化形状的抗蚀剂薄膜的热纳米压印。

项目成果

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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
界面化学結合型ナノインプリントリソグラフィによる高分子薄膜の成型と金属膜の微細加工
使用界面化学键合纳米压印光刻技术进行聚合物薄膜成型和金属薄膜微加工
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Honda;M.;Kataoka;K.;Seki;T.;Takeoka;Y.;中川勝
  • 通讯作者:
    中川勝
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィによるポリスチレン成型と電解めっきによる金薄膜のマイクロサイズ加工
使用界面化学键合热纳米压印光刻的聚苯乙烯成型以及使用电解电镀的金薄膜的微尺寸加工
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    永瀬康一;久保祥一;中川勝
  • 通讯作者:
    中川勝
ナノインプリントリソグラフィによる金属パターン形成
通过纳米压印光刻形成金属图案
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    N.Kumano;Y.Takeoka;T.Seki;T.Kawamoto;H.Haga;K.Kawabata;瀧宮和男;中川勝
  • 通讯作者:
    中川勝
Photoreactive chemisorbed monolayer suppressing polymer dewetting in thermal nanoimprint lithography.
光反应化学吸附单层抑制热纳米压印光刻中的聚合物反润湿。
  • DOI:
    10.1021/la900902f
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.9
  • 作者:
    H. Oda;T. Ohtake;T. Takaoka;M. Nakagawa
  • 通讯作者:
    M. Nakagawa
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィによる高分子薄膜の成型と金属薄膜の微細加工
使用界面化学键合热纳米压印光刻进行聚合物薄膜成型和金属薄膜微加工
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Takeoka;Y.;斎藤拓;中川勝
  • 通讯作者:
    中川勝
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