RIEによる微小3次元自由曲面形状の創成に関する研究
RIE创建微小三维自由曲面形状的研究
基本信息
- 批准号:12750101
- 负责人:
- 金额:$ 1.41万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份:2000
- 资助国家:日本
- 起止时间:2000 至 2001
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
RIE(反応性イオンエッチング)では,被加工材構成分子に対して,等方的な化学的エッチングと方向性のある物理的エッチングが同時に起きるので,その反応割合を制御することによって,3次元的な微小自由曲面の製作が可能となる.そこで,本研究では,RIEのエッチング条件と反応割合の関係を明確化し,RIEによる3次元的な微小自由曲面の製作技術を確立することを目的としている.具体的には,本年度は,被加工材の単結晶シリコンウエハについてのエッチング実験によって創成される3次元微小形状の詳細な観察と,励起気体分子のうち,物理的反応に寄与する分子と化学的反応に寄与する分子のそれぞれの組成と数量を質量分析手法によって解析した結果とを比較解析をおこない,物理的反応に寄与する分子と化学的反応に寄与する分子のそれぞれの組成の同定とその数量を解析し,それらと創成形状の関係を明らかにした.さらに,物理的エッチングと化学的エッチングの反応割合と創成形状の関係を明らかにし,3次元自由曲面の創成メカニズムの解明をはかった.
RIE (anti 応 イ オ ン エ ッ チ ン グ) で は, processed materials constitute molecules に し seaborne て, such as party な chemical エ ッ チ ン グ と directional の あ る physical エ ッ チ ン グ が に up at the same time き る の で, そ の anti 応 cut close を suppression す る こ と に よ っ て, 3 dimensional な small free surface の が may build と な る. そ こ で, this study で は, RI E の エ ッ チ ン と anti 応 cut グ condition の masato fraught を し, RIE に よ る 3rd dimensional な tiny free-form surface の technology を establish す る こ と を purpose と し て い る. Specific に は は this year, the processed material の 単 crystallization シ リ コ ン ウ エ ハ に つ い て の エ ッ チ ン グ be 験 に よ っ て chuang cheng さ れ る 3 dimensional small shape の detailed な 観 examine と, wound up 気 body molecular の う ち, physics of 応 に send す る molecules と chemical anti 応 に send す る molecular の そ れ ぞ れ number of の と を quality analysis technique に よ っ て solution Results analysis し た と を comparative analytic を お こ な い, physics of 応 に send す る molecules と chemical anti 応 に send す る molecular の そ れ ぞ れ の composition の be と そ の number を parsing し, そ れ ら と gen into shape の masato を and Ming ら か に し た. さ ら に, physical エ ッ チ ン グ と chemical エ ッ チ ン グ の anti 応 cut close と gen into shape の masato を and Ming ら か Youdaoplaceholder0 に, creation of 3d freeform surface <s:1>, explanation of メカニズム, に, った, った, った.
项目成果
期刊论文数量(4)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
土井祐輔, 古川勇二, 諸貫信行, 角田陽: "規則形状面へのMBEによるナノテクスチャ面の創成〜円形穴を配置した(111)シリコン面におけるテクスチャ〜"2001年度精密工学会秋季大会学術講演論文集. (印刷中). (2001)
Yusuke Doi、Yuji Furukawa、Nobuyuki Moronuki、Yo Tsunoda:“通过 MBE 在规则形状的表面上创建纳米纹理表面 - 排列有圆形孔的 (111) 硅表面上的纹理 -”2001 年日本精密工程学会秋季会议集上的学术演讲论文(2001 年)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
土井祐輔, 古川勇二, 諸貫信行, 角田陽: "規則形状面へのMBEによるナノテクスチャ面の創成〜直線を配置した(111)シリコン面におけるテクスチャ〜"2002年度精密工学会春季大会学術講演論文集. (印刷中). (2002)
Yusuke Doi、Yuji Furukawa、Nobuyuki Moronuki、Yo Tsunoda:“通过 MBE 在规则形状的表面上创建纳米纹理表面 - 以直线排列的 (111) 硅表面上的纹理 -” 2002 年精密工程学会春季会议集上的学术演讲论文(正在出版)。
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- 发表时间:
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