课题基金 / 基金详情

新しい材料プロセスツールとしての超臨界流体プラズマビーム装置の開発

新しい材料プロセスツールとしての超臨界流体プラズマビーム装置の開発
开发超临界流体等离子体束装置作为新材料加工工具
批准号:
15656199
负责人:
寺嶋 和夫
金额:
$1.92万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2003
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2003 至 --

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
本研究は、新しい材料表面処理/加工テクノロジーの創製を最終ゴールとして、"超臨界流体プラズマビーム"装置の開発を行った。(1)放電法による超臨界流体プラズマビームプロセス装置の開発本年度は「、材料加工・処理用の超臨界流体プラズマ材料プロセス装置の開発を行った。放電方法として、高圧雰囲気での安定性、制御性に富む、誘電体バリア放電をベースにしたビーム発生法を採用した。電源としては、交流(1〜10kHz程度)電源を用い、フロー式プロセスチャンバー(耐圧:100気圧、耐温度:100℃)は新たに作製した。主に、CO_2超臨界流体プラズマの創製を行い、そのプラズマ発生特性(ガス圧・電圧など)を調べた。また、比較実験として、バッチ式のフローのない場合の発生も行った。(3)マイクロ表面処理・加工への応用以上の新プロセス装置を用いたマイクロ表面処理・加工の予備実験として、CO2超臨界流体、および、有機金属原料を添加したCO2超臨界流体を用いた、プラズマ合成によるカーボンナノ物質、および、金属微粒子合成を行った。前者においては、通常のカーボンナノチューブやポリヘドロンなどが効率よく生成した。また、その生成機構として、従来の気体プラズマとは異なり、プラズマガス(超臨界CO2)を原料とし、かつ、触媒としてのNiなどの電極材料を不要とするものであった。また、後者の実験ではCO2の通常の高圧ガスへの有機金属原料の1000倍にも及び高い溶解度の大きさに起因して、通常の気体プラズマでは生成しなかった数十nm程度の金属微粒子の生成に成功した。さらにまた、通常の超臨界流体(非プラズマ状態)からの生成では、純粋な金属微粒子は得られず、不純物としての酸素や炭素元素の検出が確認され、超臨界流体プラズマプロセスの高い反応性が確認された。
英文摘要
本研究は、新しい材料表面処理/加工テクノロジーの創製を最終ゴールとして、"超臨界流体プラズマビーム"装置の開発を行った。(1)放電法による超臨界流体プラズマビームプロセス装置の開発本年度は「、材料加工・処理用の超臨界流体プラズマ材料プロセス装置の開発を行った。放電方法として、高圧雰囲気での安定性、制御性に富む、誘電体バリア放電をベースにしたビーム発生法を採用した。電源としては、交流(1〜10kHz程度)電源を用い、フロー式プロセスチャンバー(耐圧:100気圧、耐温度:100℃)は新たに作製した。主に、CO_2超臨界流体プラズマの創製を行い、そのプラズマ発生特性(ガス圧・電圧など)を調べた。また、比較実験として、バッチ式のフローのない場合の発生も行った。(3)マイクロ表面処理・加工への応用以上の新プロセス装置を用いたマイクロ表面処理・加工の予備実験として、CO2超臨界流体、および、有機金属原料を添加したCO2超臨界流体を用いた、プラズマ合成によるカーボンナノ物質、および、金属微粒子合成を行った。前者においては、通常のカーボンナノチューブやポリヘドロンなどが効率よく生成した。また、その生成機構として、従来の気体プラズマとは異なり、プラズマガス(超臨界CO2)を原料とし、かつ、触媒としてのNiなどの電極材料を不要とするものであった。また、後者の実験ではCO2の通常の高圧ガスへの有機金属原料の1000倍にも及び高い溶解度の大きさに起因して、通常の気体プラズマでは生成しなかった数十nm程度の金属微粒子の生成に成功した。さらにまた、通常の超臨界流体(非プラズマ状態)からの生成では、純粋な金属微粒子は得られず、不純物としての酸素や炭素元素の検出が確認され、超臨界流体プラズマプロセスの高い反応性が確認された。
期刊论文(1)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
T.Ito, H.Fujiwara, K.Terashima: "Decreace of breakdown voltages for micrometer-scale-gap electrodes for carbon dioxide near the critical point : temperature and pressure dependences"J.Appl.Phys.. 94・8. 5411-5413 (2003)
T.Ito、H.Fujiwara、K.Terashima:“临界点附近二氧化碳微米级间隙电极的击穿电压的降低:温度和压力依赖性”J.Appl.Phys.. 94・8。 5413 (2003)
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
先端アクアプラズマプロセスによる環動高分子を用いた革新的タフコンポジットの創製
  • 批准号:
    21H04450
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 资助金额:
    $27.04万
  • 财政年份:
    2021
  • 负责人:
    寺嶋 和夫
  • 依托单位:
極低温および超臨界流体環境でのプラズマ先端材料科学プロセシング
  • 批准号:
    10F00385
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $1.34万
  • 财政年份:
    2010
  • 负责人:
    寺嶋 和夫
  • 依托单位:
大気圧クライオマイクロプラズマの材料プロセシングへの応用
  • 批准号:
    07F07408
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $1.02万
  • 财政年份:
    2007
  • 负责人:
    寺嶋 和夫
  • 依托单位:
大気圧クライオプラズマの創製とその材料加工プロセスへの応用
  • 批准号:
    19656188
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额:
    $2.18万
  • 财政年份:
    2007
  • 负责人:
    寺嶋 和夫
  • 依托单位:
海外基金