大気圧クライオプラズマの創製とその材料加工プロセスへの応用
大気圧クライオプラズマの創製とその材料加工プロセスへの応用
批准号:
19656188
负责人:
寺嶋 和夫
金额:
$2.18万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2007
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2007 至 --
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本研究では、大気圧プロセスプラズマの新しい可能性を開拓すべく、(1)"熱プラズマ(ガス温度数千K〜数万K程度)"、(2)"低温プラズマ(ガス温度300K〜1000K程度)"に次ぐ、第3の温度領域-ガス温度数十K〜273K〜300K程度-のプロセスプラズマ"大気圧クライオマイクロプラズマ"の創製とその材料加工プロセスへの応用を目指し,以下のような成果を挙げた。先ず、(1)大気圧クライオプラズマの創製とプラズマ診断を行った。ガス温度を液体ヘリウム温度から室温まで(4〜300K)連続的に制御したクライオプラズマ(誘電体バリア放電型プラズマジェット、および、平行平板型電極を用いた誘電体バリア放電)の安定発生に成功した。プラズマジェットの様子は温度とともに変化する。また、発光分光測定を行ったところ、励起種がガス温度低下に伴って変化することも確認され、ガス温度が20K以下になるとヘリウムエキシマーからの発光がはっきりと確認された。さらに、透明電極であるITO電極を用いて平行平板型電極を用いたクライオ誘電体バリア放電プラズマを発生させたところガス温度変化に伴いプラズマの自己組織化パターンも変化することがわかった。これらは雰囲気ガスの温度変化に伴う密度変化や物性変化に起因すると考えられる。また、(2)材料加工プロセス(表面エッチング、表面改質)への応用に向け、有機材料の表面改質(表面の親水化)の予備実験も開始した。
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DOI:
10.1143/apex.1.046001
发表时间:
2008-03
期刊:
Applied Physics Express
影响因子:
2.3
作者:
[Y. Noma;J. Choi;S. Stauss;T. Tomai;K. Terashima]
通讯作者:
Y. Noma;J. Choi;S. Stauss;T. Tomai;K. Terashima
大気圧クライオプラズマのガス温度依存(4〜296K)生成と診断
气体温度依赖性 (4-296K) 常压冷等离子体的生成和诊断
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
--
作者:
[野間由里, 崔 宰赫, Sven Stauss, 笘居高明, 寺嶋和夫,]
通讯作者:
寺嶋和夫,
大気圧クライオプラズマの温度依存特性
大气压冷等离子体的温度依赖性特征
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
--
作者:
[野間由里, 崔 宰赫, Sven Stauss, 苫居高明, 寺嶋和夫]
通讯作者:
寺嶋和夫
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Yuri Noma, Jai Hyuk Choi, Sven Stauss, Takaaki Tomai, and Kazuo Terashima]
通讯作者:
and Kazuo Terashima
先端アクアプラズマプロセスによる環動高分子を用いた革新的タフコンポジットの創製
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批准号:21H04450
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$27.04万
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财政年份:2021
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
極低温および超臨界流体環境でのプラズマ先端材料科学プロセシング
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批准号:10F00385
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2010
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
大気圧クライオマイクロプラズマの材料プロセシングへの応用
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批准号:07F07408
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.02万
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财政年份:2007
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
超臨界流体プラズマ法による新規カーボンナノ材料の創製
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批准号:17656225
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.24万
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财政年份:2005
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
新しい材料プロセスツールとしての超臨界流体プラズマビーム装置の開発
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批准号:15656199
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.92万
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财政年份:2003
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
プラズマ環境AFMの関発とそのプラズマ薄膜プロセスナノスケール制御への応
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批准号:10875140
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1998
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
ナノスケールワールドへの新しいエキゾチックプラズマの探索研究
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批准号:08874038
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.54万
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财政年份:1996
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
STMによる原子・分子マニピュレーター開発
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批准号:02855167
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.45万
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财政年份:1990
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
STMを用いた,ナノオーダー超微細システム作製プロセスの開発
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批准号:01740175
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1989
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
高周波プラズマプロセスによる高温酸化物超伝導体の高速合成
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批准号:63750701
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1988
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
海外基金