超臨界流体プラズマ法による新規カーボンナノ材料の創製
超臨界流体プラズマ法による新規カーボンナノ材料の創製
批准号:
17656225
负责人:
寺嶋 和夫
金额:
$2.24万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2005
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2005 至 --
中文摘要
誘電体バリア放電、および、直流放電をベースにしたCO_2およびXe超臨界流体プラズマのな発生を行い、リサージュ測定からその電子密度が10^<18-22>cm^<-3>という超高密度であることを明らかにした。またCO_2超臨界プラズマの顕微ラマン分光より、ラマンピークの低波長側へのシフトが見られ、通常考えられる、温度の上昇による効果とは逆のシフトであり、分子の形態の変化が示唆された。またカーボン系ナノ構造物質合成プロセスへの応用を行った。scCO_2中でのプラズマプロセスでは特に、プロセスの温度、圧力依存性や、周波数依存性を精緻に調べ、SCFプラズマプロセスの知見を深めた。結果、適用したアーク、DBD、どちらの放電形態においても、scCO_2中でのプラズマプロセスにより、CO_2を炭素源としてカーボンナノチューブ、カーボンナノホーン等、多量のカーボン系ナノ構造物質の合成に無触媒、低いプロセス雰囲気温度で成功し、新たな反応経路を利用した物質合成に実現した。特に3kHzの交流電圧を印加したDBD法の際に、多量のナノ構造物質の合成に成功した。SCF中でのプロセスと比較するために高圧ガス中、および液体中でのプロセスも行なったが、高圧ガス中ではほぼアモルファスカーボンの合成しか確認されず、SCFよりも高密度となる液体中でのプロセスにおいても、部分的にナノチューブ等のナノ構造物質の合成は確認されたが、SCF中でのプロセスに比べると少量で、ナノ構造物質が密集した集合体も確認されなかった。これは、ゆらぎの大きいSCF中でのプロセスにおいては、ナノ構造物質の合成に適した条件(密度、種となるクラスターの大きさ等)となる点が存在しやすい、もしくは特異な雰囲気であるSCFとプラズマとの界面において、これらナノ構造物質の合成に優位に働く特殊なメカニズムが存在するのではないかと推測される。
英文摘要
誘電体バリア放電、および、直流放電をベースにしたCO_2およびXe超臨界流体プラズマのな発生を行い、リサージュ測定からその電子密度が10^<18-22>cm^<-3>という超高密度であることを明らかにした。またCO_2超臨界プラズマの顕微ラマン分光より、ラマンピークの低波長側へのシフトが見られ、通常考えられる、温度の上昇による効果とは逆のシフトであり、分子の形態の変化が示唆された。またカーボン系ナノ構造物質合成プロセスへの応用を行った。scCO_2中でのプラズマプロセスでは特に、プロセスの温度、圧力依存性や、周波数依存性を精緻に調べ、SCFプラズマプロセスの知見を深めた。結果、適用したアーク、DBD、どちらの放電形態においても、scCO_2中でのプラズマプロセスにより、CO_2を炭素源としてカーボンナノチューブ、カーボンナノホーン等、多量のカーボン系ナノ構造物質の合成に無触媒、低いプロセス雰囲気温度で成功し、新たな反応経路を利用した物質合成に実現した。特に3kHzの交流電圧を印加したDBD法の際に、多量のナノ構造物質の合成に成功した。SCF中でのプロセスと比較するために高圧ガス中、および液体中でのプロセスも行なったが、高圧ガス中ではほぼアモルファスカーボンの合成しか確認されず、SCFよりも高密度となる液体中でのプロセスにおいても、部分的にナノチューブ等のナノ構造物質の合成は確認されたが、SCF中でのプロセスに比べると少量で、ナノ構造物質が密集した集合体も確認されなかった。これは、ゆらぎの大きいSCF中でのプロセスにおいては、ナノ構造物質の合成に適した条件(密度、種となるクラスターの大きさ等)となる点が存在しやすい、もしくは特異な雰囲気であるSCFとプラズマとの界面において、これらナノ構造物質の合成に優位に働く特殊なメカニズムが存在するのではないかと推測される。
期刊论文(3)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
マイクロプラズマの新しい応用展開
微等离子体新应用进展
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
化学工業 56・6
影响因子:
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作者:
[寺嶋和夫, 笘居高明, 石原大輔]
通讯作者:
石原大輔
Spectroscopic measurement of plasmas generated in supercritical carbon dioxide environments
超临界二氧化碳环境中产生的等离子体的光谱测量
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
Proc.ISPC17
影响因子:
--
作者:
[T.Tomai, M.Sawada, K.Terashima]
通讯作者:
K.Terashima
Generation of dielectric barrier discharge in N2 and CO2 environments up to supercritical conditions
在 N2 和 CO2 环境中直至超临界条件下产生介质阻挡放电
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
Thin Solid Films (In press)
影响因子:
--
作者:
[T.Tomai, T.Ito, K.Terashima]
通讯作者:
K.Terashima
先端アクアプラズマプロセスによる環動高分子を用いた革新的タフコンポジットの創製
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批准号:21H04450
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$27.04万
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财政年份:2021
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
極低温および超臨界流体環境でのプラズマ先端材料科学プロセシング
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批准号:10F00385
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2010
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
大気圧クライオマイクロプラズマの材料プロセシングへの応用
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批准号:07F07408
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.02万
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财政年份:2007
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
大気圧クライオプラズマの創製とその材料加工プロセスへの応用
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批准号:19656188
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.18万
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财政年份:2007
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
新しい材料プロセスツールとしての超臨界流体プラズマビーム装置の開発
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批准号:15656199
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.92万
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财政年份:2003
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
プラズマ環境AFMの関発とそのプラズマ薄膜プロセスナノスケール制御への応
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批准号:10875140
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1998
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
ナノスケールワールドへの新しいエキゾチックプラズマの探索研究
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批准号:08874038
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.54万
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财政年份:1996
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
STMによる原子・分子マニピュレーター開発
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批准号:02855167
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.45万
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财政年份:1990
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
STMを用いた,ナノオーダー超微細システム作製プロセスの開発
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批准号:01740175
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1989
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
高周波プラズマプロセスによる高温酸化物超伝導体の高速合成
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批准号:63750701
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1988
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
海外基金