大気圧クライオマイクロプラズマの材料プロセシングへの応用
大気圧クライオマイクロプラズマの材料プロセシングへの応用
批准号:
07F07408
负责人:
寺嶋 和夫
金额:
$1.02万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2007
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2007 至 2009
中文摘要
大気圧クライオマイクロプラズマの生成、物性診断、新しい材料加工プロセシングを目的とした研究を行い、以下の実績を得た。(1)He, Ar, Air, N_2などの各種ガスをプロセシングガスとして使用し、数K~300Kの極低温の温度範囲内で均一で安定な大気圧クライオプラズマを生成することに成功した。また発光分光法により、窒素分子の発光スペクトルを分析してプラズマガス温度を測定した。(2)放電の観察、電流電圧測定と分光分析の結果、大気圧クライオプラズマのガス温度の制御によってプラズマの色、パターンの変化、そして放電モードの転移を見出した。特にHeクライオプラズマの場合、発光分光測定を時間分解分光分析によって行い、温度の低下が発光スペクトル、づまり活性種の時間展開を変化させ、擬似グロー放電からグロー放電、そしてタウンゼント放電へ至る放電モードの変化をもたらすことが示された。一般にHeプラズマにおいてはタウンゼント放電は生成されない事が知られており、この点からもこの研究成果は貴重だといえる。この現象の理由としてHeクライオプラズマの中に存在するHe準安定種が大切な役割を行ったと考えられる。この結果はクライオプラズマの放電モードの温度依存性をさらに根拠づけるものとなった。この研究は、圧力または電極間距離といった従来のプラズマ科学で用いられてきたパラメータと同様に、温度という新しく導入されたパラメータが放電モードを変化させることを示した点において重要である。(3)応用を目的としたクライオプラズマの開発を行った。従来クライオプラズマに採用してきた平行平板型、プラズマジェット型を用いた誘電体バリア放電に続き、電子のPendelum効果により低電力、高電子密度といった特徴を持つマイクロホローカソード放電をクライオプラズマに用い、より応用に適した低電力高密度プラズマとしてのクライオプラズマソースの可能性を確認した。
英文摘要
大気圧クライオマイクロプラズマの生成、物性診断、新しい材料加工プロセシングを目的とした研究を行い、以下の実績を得た。(1)He, Ar, Air, N_2などの各種ガスをプロセシングガスとして使用し、数K~300Kの極低温の温度範囲内で均一で安定な大気圧クライオプラズマを生成することに成功した。また発光分光法により、窒素分子の発光スペクトルを分析してプラズマガス温度を測定した。(2)放電の観察、電流電圧測定と分光分析の結果、大気圧クライオプラズマのガス温度の制御によってプラズマの色、パターンの変化、そして放電モードの転移を見出した。特にHeクライオプラズマの場合、発光分光測定を時間分解分光分析によって行い、温度の低下が発光スペクトル、づまり活性種の時間展開を変化させ、擬似グロー放電からグロー放電、そしてタウンゼント放電へ至る放電モードの変化をもたらすことが示された。一般にHeプラズマにおいてはタウンゼント放電は生成されない事が知られており、この点からもこの研究成果は貴重だといえる。この現象の理由としてHeクライオプラズマの中に存在するHe準安定種が大切な役割を行ったと考えられる。この結果はクライオプラズマの放電モードの温度依存性をさらに根拠づけるものとなった。この研究は、圧力または電極間距離といった従来のプラズマ科学で用いられてきたパラメータと同様に、温度という新しく導入されたパラメータが放電モードを変化させることを示した点において重要である。(3)応用を目的としたクライオプラズマの開発を行った。従来クライオプラズマに採用してきた平行平板型、プラズマジェット型を用いた誘電体バリア放電に続き、電子のPendelum効果により低電力、高電子密度といった特徴を持つマイクロホローカソード放電をクライオプラズマに用い、より応用に適した低電力高密度プラズマとしてのクライオプラズマソースの可能性を確認した。
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DOI:
10.1063/1.2980436
发表时间:
2008-09
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
[Y. Noma;J. Choi;T. Tomai;K. Terashima]
通讯作者:
Y. Noma;J. Choi;T. Tomai;K. Terashima
Temperature-dependent transition of discharge pattern during Helium cryoplasma
氦冷等离子体期间放电模式的温度依赖性转变
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Jai Hyuk Choi, Yuri Noma, Masaki Sano, Kazuo Terashima, Jai Hyuk Choi, Jai Hyuk Choi]
通讯作者:
Jai Hyuk Choi
DOI:
10.1143/apex.1.046001
发表时间:
2008-03
期刊:
Applied Physics Express
影响因子:
2.3
作者:
[Y. Noma;J. Choi;S. Stauss;T. Tomai;K. Terashima]
通讯作者:
Y. Noma;J. Choi;S. Stauss;T. Tomai;K. Terashima
Temperature-dependent transition of discharge pattern during helium cryo-plasma
氦冷等离子体过程中放电模式的温度依赖性转变
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Jai Hyuk Choi, Yuri Noma, Masaki Sano, Kazuo Terashima, Jai Hyuk Choi, Jai Hyuk Choi, Jai Hyuk Choi]
通讯作者:
Jai Hyuk Choi
DOI:
10.1063/1.3130183
发表时间:
2009-05
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
[S. Kiriu;H. Miyazoe;Fumitoshi Takamine;Masaki Sai;J. Choi;T. Tomai;K. Terashima]
通讯作者:
S. Kiriu;H. Miyazoe;Fumitoshi Takamine;Masaki Sai;J. Choi;T. Tomai;K. Terashima
共 10 条
先端アクアプラズマプロセスによる環動高分子を用いた革新的タフコンポジットの創製
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批准号:21H04450
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$27.04万
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财政年份:2021
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
極低温および超臨界流体環境でのプラズマ先端材料科学プロセシング
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批准号:10F00385
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2010
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
大気圧クライオプラズマの創製とその材料加工プロセスへの応用
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批准号:19656188
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.18万
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财政年份:2007
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
超臨界流体プラズマ法による新規カーボンナノ材料の創製
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批准号:17656225
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.24万
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财政年份:2005
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
新しい材料プロセスツールとしての超臨界流体プラズマビーム装置の開発
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批准号:15656199
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.92万
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财政年份:2003
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
プラズマ環境AFMの関発とそのプラズマ薄膜プロセスナノスケール制御への応
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批准号:10875140
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1998
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
ナノスケールワールドへの新しいエキゾチックプラズマの探索研究
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批准号:08874038
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.54万
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财政年份:1996
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
STMによる原子・分子マニピュレーター開発
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批准号:02855167
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.45万
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财政年份:1990
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
STMを用いた,ナノオーダー超微細システム作製プロセスの開発
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批准号:01740175
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1989
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负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
高周波プラズマプロセスによる高温酸化物超伝導体の高速合成
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批准号:63750701
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1988
-
负责人:寺嶋 和夫
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依托单位:
海外基金