CーBN気相合成

C-BN气相合成

基本信息

  • 批准号:
    02453056
  • 负责人:
  • 金额:
    --
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    1990
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1990 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

1.[cーBN生成領域]平行平板型バイアススパッタリング装置による堆置による堆積実験の結果、堆積基板へ敷居値以上のバイアスを印加することにより低圧安定相のhーBN以外に高圧高温安定相のcーBNが析出し、バイアスの増加と共にhーBNに対するcーBNの割合が増加し、過剰バイアス印加状態では再びhーBNの単離囲結合のみのアモルファス相になることが判明した。他にcーBN相はAr放電中でしか析出しなく、過剰のN_2が存在する時にはバイアスを印刷しても析出しないこと、タ-ゲット入力500W以下ではcーBNは析出せず、タ-ゲット入力の増加と共にバイアス依存するcーBNの生成領域は拡大すること、スパッタ限界の4×10^<-2>torrまでの圧力増加に対し、cーBNのhーBNに対する生成割合は増加しcーBN生成可能な敷居値バイアスの値は低下することが判明した。2.[生成膜の検討]ESCAによる組成分析結果では、cーBN膜はボロンと窒素の他に炭素と酸素を2〜3%含むのみの高純度膜であり、窒化率はほぼ1の化学量論組成を示した。電子線解析結果ではcーBNの電子腺回折パタ-ンは1%以内でASTMカ-ドの値と一致し、またcーBNの粒径は最大1000A程度であり、バイアス値の低下と共に粒径は100A^^゚程度まで小さくなることが判明した。さらに高分解能電子線観察で、cーBN結晶粒の粒界はアモルファスであり、粒内には多数の双晶および積層不正が形成されていることが判明した。膜は残留応力によりcーBN単層では真空から空気中にとりだした途端に割れ始めるが、基板のSiとcーBNの間にhーBNのバッファ層を入れることにより割れることを防ぐことが可能であることが判明した。3.[プラズマinーsitu測定]発光分光法によるプラズマ空間中のラジカル密度分布測定の結果、タ-ゲット入力、圧力の増加は基板近傍のラジカル密度の増加に作用し、cーBNの生成と基板へのイオン流束は強く関連することが判明した。
1. [BN generation domain] Parallel plate type: stacking, stacking In the case of a case where the state of affairs of the State of affairs of the State When the BN phase is separated, the N_2 phase <-2>is separated, the BN phase is separated, the BN phase is separated, the 2. [Investigation of film formation]ESCA composition analysis results show that BN film has a high purity film with 2 ~ 3% carbon and other carbon and acid, and its chemical composition is 1%. The electron ray analysis results show that the electron gland deflection of c-BN is less than 1% of ASTM value, the particle size of c-BN is less than 1000A, and the particle size is less than 100A. In addition, the high decomposition energy electron ray observation shows that the grain boundary of c-BN crystal particles is not normal, and most of the double crystal layers in the grains are not normal. The film residual force is zero. The substrate is zero. The film residual force is zero. 3. [Determination of the density distribution in the substrate] The results of measurement of the density distribution in the substrate space by optical spectroscopy show that the increase of the input force and pressure increases the density of the substrate near the substrate, and the generation of BN and the strong correlation between the flow and the substrate.

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Masahiro Mieno: "Preparation of Cubic Boron Nitride films by Radio Frequency Sputtering" J.Vac.Sci.&Technol.
Masahiro Mieno:“通过射频溅射制备立方氮化硼薄膜”J.Vac.Sci。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Masahiro Mieno: "The Preparation of Cubic Boron Nitride Films by Bias sputtering" Proceedings of Japanese Symposium on Plasma Chemistry. 3. (1990)
Masahiro Mieno:“通过偏压溅射制备立方氮化硼薄膜”日本等离子体化学研讨会论文集。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
三重野 正寛: "スパッタリング法によるcーBN薄膜の作製" 第51回応用物理学会学術講演会講演予稿集. 2. 373-373 (1990)
Masahiro Mieno:“溅射法制备c-BN薄膜”第51届日本应用物理学会年会论文集2. 373-373(1990)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Masahiro Mieno: "Preparation of Cubic Boron Nitride Films by RF Sputtering" Japanese Journal of Applied Physics. 29. L1175-L1177 (1990)
Masahiro Mieno:“通过射频溅射制备立方氮化硼薄膜”日本应用物理学杂志。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
三重野 正寛: "スパッタ法から見たcーBN気相合成の現状と将来展望" cーBN気相合成(日本金属学会分科会シンポジウム予稿). 1-4 (1991)
Masahiro Mieno:“从溅射角度看c-BN气相合成的现状和未来前景”c-BN气相合成(日本金属学会小组委员会初步研讨会1-4(1991年)。
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  • 发表时间:
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  • 作者:
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吉田 豊信其他文献

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  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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