含ケイ素ポリマ-の合成と新規機能材料へのアプロ-チ

含硅聚合物的合成及新型功能材料的制备

基本信息

  • 批准号:
    01604584
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.6万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1989
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1989 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

ジエチニルジシランを原料とするロジウム(I)錯体触媒存在下での重合反応によって全く新しい形式の有機ケイ素ポリマ-を合成しその機能性を追求した。1.ポリ[ジシラニレンプトエンイン-1.4-ジイル]の合成各種の置換基を有するジエチニルジシランを触媒量のクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)と反応させると分子量(Mw)2万〜10万のポリ[ジシラニレンプトエンイン-1.4-ジイル]が淡黄色の個体として得られた。ポリマ-は主鎖にケイ素-ケイ素結合とエンインユニットとを交互に有する規則正しい構造を有することが各種のスペクトル測定によって明らかとなった。本反応はロジウムによるアセチレンのC-H結合活性化ともう一分子のモノマ-のアセチレン三重結合への挿入による頭一頭二量化で進行していると考えられる。本反応で共重合を行うことも可能であり、たとえばジエチニルテトラメチルジシランとジエチニルテトラフェニルジシランの共重合ではそれぞれのモノマ-ユニットが1対1で規則正しく主鎖に含まれている共重合体が得られた。2.ポリ[ジシラニルプトエンイン-1.4-ジイル]の機能得られたポリマ-は通常の有機溶媒に可溶でスピンコ-ティングにより数千Åの均一な膜厚の薄膜にすることができる。この薄膜をSbF_5でド-プすると導電性薄膜が得られその電導度は10^<-2>-1S・cm^<-1>と良好な値を示した。又、このポリマ-は光感応性を有し、紫外線照射により顕著な分子量低下を示しポジ型フォトレジストとしての利用の可能性を確認した。この光分解過程を解明する目的でIR,UVなどのスペクトルによる反応追跡を行った。またモデル化合物として各種ジシラニルエンインを合成しその光反応を行い本ポリマ-の光感応性は主鎖に含まれるケイ素-ケイ素結合の切断によるものであることを明らかとした。
ジエチニルジシランを raw material とするロジウム (I) Coincidence reaction in the presence of a miscellaneous catalyst It is a new and organic form that is organic and functional. 1. Synthesis of various substitutions of ポリ[ジシラニレンプトエンイン-1.4-ジイル] Basicsィン)ロジウム(I)と応させるとMolecular weight (Mw) 20,000~100,000のポリ[ジシラニレンプトエンイン-1.4-ジイル]がLight yellow individual として got られた.ポリマ-は main lock にケイ素-ケイ素combination とエンインユニットとをinteraction に有するgui Then the structure of the positive structure is determined by the various types of structures. This reverse はロジウムによるアセチレンのC-H combined activation ともう一molecule のモノマ-のアセチレン Triple combination へのinserted による头一二quantization で carried out していると考えられる. This reaction is a total overlap of the line, the line, the line, the line, the line, the line, the line, the line, the line, the line, the line, and the line.チニルテトラメチルジシランとジエチニルテトラフェニルジシランの合合ではそれぞれのモノマ-ユニットが1対1. The rules are positive and the main lock is contained in the total overlapping body. 2.ポリ[ジシラニルプトエンイン-1.4-ジイル]のfunctionalityられたポリマ-はusuallyの有The organic solvent is a soluble でスピンコ-ティングによりthousands of Å and is a thin film with a uniform film thickness of にすることができる.このfilmをSbF_5でド-プするとConductive filmがgetられそのConductivityは10^<-2>-1S・cm^<-1>とGood performance. In addition, the photosensitivity of このポリマ-は and the molecular weight of ultraviolet irradiation The possibility of using the low-profile しポジ-type フォトレジストとしての has been confirmed.このPhotolysis process を Explain the purpose でIR, UV などのスペクトルによる Reflection trace を行った.またモデルとして Various ジシラニエンインを Synthetic しその光 Reflection を行い本ポリマ-の光Sensitive は main lock contains the まれるケイ element - the ケイ element combines and cuts the によるものであることを明らかとした.

项目成果

期刊论文数量(8)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Joji Ohshita: "Polymeric Organosilicon Systems.VI.Synthesis and Properties of trans-Poly[(disilanylene)ethenylene]" J.Organimet.Chem.369. C18-C20 (1989)
Joji Ohshita:“聚合有机硅系统。VI。反式聚[(二硅基)乙烯]的合成和性能”J.Organimet.Chem.369。
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Mitsuo Ishikawa: "Polymeric Organosilicon Systems.7.Ring-Opening Polymerization of 1,2,5,6-Tetrasilaocta-3,7-diynes" Organometallics. 8. 2741-2742 (1989)
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  • 影响因子:
    0
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Joji Ohshita: "Polymeric Organosilicon Systems. 5. Synthesis of poly[(disilanylene)butenyne-1, 4-diyls] with Highly Conducting Properties" Organometallics. 8. 2084-2085 (1989)
Joji Ohshita:“聚合有机硅系统。5.具有高导电性能的聚[(二硅基)丁烯炔-1, 4-二基]的合成”有机金属。
  • DOI:
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    0
  • 作者:
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Mitsuo Ishikawa: "Polymeric Organosilicon Systems.VIII.Synthesis of Poly[(disilanylene)diethynylene]with Highly Conducting Properties" J.Organomet.Chem.
Mitsuo Ishikawa:“聚合有机硅系统。VIII.具有高导电性能的聚[(二硅基)二乙炔基]的合成”J.Organomet.Chem。
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