低配位および高歪有機典型元素化合物の特徴と異常性

1.高歪含ケイ素化合物の反応: 2ーフェニルおよび2ー0ートリルー2ーフェニルエチニルヘキサメチルトリシランのNi錯体触媒反応により配位不飽和ケイ素種であるシラプロパジエンーニッケル錯体を発生させてその異性化挙動を明らかにした。前者からはトリメチルシリル基の転位を、後者からはフェニル基の転位を伴って反応が進行することがわかった。2.2ーヘテロシクロプロペンの化学特性: アセチレンと二塩化イオウの反応により三員環中間体、チイレニウムイオンを経由して1ークロロー2ークロロスルフェニルオレフィンが定量的に生成すること、およびこれがー50℃以下で安定に存在することを見出した。またこれが二官能性活性中間体であることを利用して、チオフェンやベンゾチアンなどの含イオウ複素環化合物の合成に応用できることを見出した。3.超高スピン有機分子の構築: 段階法により前駆体であるポリ(mーフエニレンメチレン)骨格を持つノナケトンの合成に成功した。また、ジアゾおよびアジド基を持つ1ーフェニルー1,3ーブタジエンの固相重合により一挙にポリマ-を得るアプロ-チについて検討し、有用な知見を得た。4.低配位リン化合物の合成と物性: 2,4,6ートリーtーブチルフェニル基の立体保護作用を利用して、ジホスフェン、ホスファチアレン、ホスファアレン、ジホスファアレンなどの一連の低配位リン化合物の合成に成功した。5.異常原子価化合物の分子内、分子間相互作用: 非対称のMartinーLigandを有するビスマス化合物のX線解析を行い,これが異常原子価を有するσースルフラン型化合物であることを明らかにした。6.新規ホスフィンボラン錯体の合成: ジクロロフェニルホスフィンから一段で光学活性二級ホスフィンボランを合成できた。これから、種々の三級ホスフィンボランが高い光学収率で得られた。

1.高歪含ケイ素化合物の反応: 2ーフェニルおよび2ー0ートリルー2ーフェニルエチニルヘキサメチルトリシランのNi錯体触媒反応により配位不飽和ケイ素種であるシラプロパジエンーニッケル錯体を発生させてその異性化挙動を明らかにした。前者からはトリメチルシリル基の転位を、後者からはフェニル基の転位を伴って反応が進行することがわかった。2.2ーヘテロシクロプロペンの化学特性: アセチレンと二塩化イオウの反応により三員環中間体、チイレニウムイオンを経由して1ークロロー2ークロロスルフェニルオレフィンが定量的に生成すること、およびこれがー50℃以下で安定に存在することを見出した。またこれが二官能性活性中間体であることを利用して、チオフェンやベンゾチアンなどの含イオウ複素環化合物の合成に応用できることを見出した。3.超高スピン有機分子の構築: 段階法により前駆体であるポリ(mーフエニレンメチレン)骨格を持つノナケトンの合成に成功した。また、ジアゾおよびアジド基を持つ1ーフェニルー1,3ーブタジエンの固相重合により一挙にポリマ-を得るアプロ-チについて検討し、有用な知見を得た。4.低配位リン化合物の合成と物性: 2,4,6ートリーtーブチルフェニル基の立体保護作用を利用して、ジホスフェン、ホスファチアレン、ホスファアレン、ジホスファアレンなどの一連の低配位リン化合物の合成に成功した。5.異常原子価化合物の分子内、分子間相互作用: 非対称のMartinーLigandを有するビスマス化合物のX線解析を行い,これが異常原子価を有するσースルフラン型化合物であることを明らかにした。6.新規ホスフィンボラン錯体の合成: ジクロロフェニルホスフィンから一段で光学活性二級ホスフィンボランを合成できた。これから、種々の三級ホスフィンボランが高い光学収率で得られた。