レ-ザ-共鳴イオン化法によるCH_3の計測

激光共振电离法测量CH_3

• 批准号: 01632520
• 负责人: 岡田 龍雄
• 金额: $ 1.54万
• 依托单位: Kyushu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1989
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1989 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-01632520/
• 关键词: プラズマCVD; 共鳴イオン化分光; メチルラジカル; 再結合速度係数; オプトガルバノ分光

CH_3やSiH_3などのラジカルは、CVDプロセス中でキ-ラジカルの一つと考えられているが、非蛍光性であるため従来分光的手法による計測が困難であった。本研究の目的は、CH_3など非蛍光性ラジカルを高い空間・時間分解能で計測する手法としてレ-ザ-共鳴イオン化法(RIS)による計測法を確立することである。本年度は、ArFレ-ザ-によるフラッシュホトリシスにより生成した。CH_3ラジカル計測対象として、素過程計測法の開発を主に行なった。合せて、プラズマ中のCH_3の計測法開発についても実験的研究を行なった。その結果、1.アセトンをArFレ-ザ-で光分解して、発生したCH_3に2+1RISを適用して、CH_3の検出を行なった。その際、検知下限は5×10^<13>cm^<-3>程度と推定された。2.ArFレ-ザ-とRIS用色素レ-ザ-の発振のタイミングを変化してCH_3密度の時間変化を測定し、その消失速度より再結合反応係数として5.3×10^<-11>cm^3/sを得た。3.プラズマ中のCH_3をRISにより検出するため、オプトガルバノ分光法(OGS)を併用し、検知下限を実験的に調べた。OGS法では、10_7個程度のイオン化が起これば信号を検出できることが明らかとなった。これは現在の実験技術で十分検出可能な範囲である。

CH_3 や SiH_3 な ど の ラ ジ カ ル は, CVD プ ロ セ ス in で キ - ラ ジ カ ル の a つ と exam え ら れ て い る が, non 蛍 optical で あ る た め 従 to spectroscopic technique に よ る measuring が difficult で あ っ た. は の purpose, this study CH_3 な ど non 蛍 light ラ ジ カ ル を high い space, time can decompose で す meter test る gimmick と し て レ ザ - resonance イ オ ン polarization method (RIS) に よ る を measuring method to establish す る こ と で あ る. For the current year, ザ and ArFレ-ザ-によるフラッシュホトリシスによ レ generate た た. CH_3ラジカ the target of the ラジカ measurement is と て て, and the development of the prime process measurement method is を main に line なった. The research on the simulation of <s:1> CH_3 measurement methods in せて and プラズ プラズ is based on を,, て and て experiments. そ の results, 1. ア セ ト ン を ArF レ ザ - で photolysis し て, 発 し た CH_3 に 2 + 1 ris を applicable し て, CH_3 の 検 を row な っ た. Youdaoplaceholder0 そ the lower limit of knowledge of 検 is そ 5×10^<13>cm^<-3>, and the degree is と presumed された. 2. ArF レ ザ - と RIS with pigment レ ザ - の 発 vibration の タ イ ミ ン グ を variations change し て CH_3 density の time - を determination し, そ の rapidly disappearing よ り recombination coefficient of anti 応 と し て 5.3 * 10 ^ < - > 11 cm ^ 3 / s を た. In 3. プ ラ ズ マ の CH_3 を RIS に よ り 検 out す る た め, オ プ ト ガ ル バ ノ spectrometry (OGS) を and lower limit, 検 し を be 験 に tuned べ た. OGS method で は, degree of 10 _7 の イ オ ン change since が こ れ ば signal を 検 out で き る こ と が Ming ら か と な っ た. The <s:1> experimental technology で is now very 検 likely な range 囲である.

项目成果

岡田龍雄 他: "レ-ザ-イオン化分光法のプラズマプロセス分野への応用" レ-ザ-研究. 17. 536-545 (1989)

Tatsuo Okada 等人：“激光电离光谱在等离子体处理领域的应用”Laser Research 17. 536-545 (1989)。

Tatsuo Okada 他: "In Situ Detection of Methyl Radicals in Laser Chemical Vapor Deposition Environment by Resonance Ionization Spectroscopy" Applied Physics Letters.

Tatsuo Okada 等人：“通过共振电离光谱法对激光化学气相沉积环境中的甲基自由基进行原位检测”应用物理快报。

Tatsuo Okada 他: "Fundamental Gas Phase Process Diagnostics in Chemical Vapor Deposition Uning Laser Spectroscopy" Proceedings of the 4th International Symposium on Laser-Aided Plasma Diagnostics. 432-436 (1989)

Tatsuo Okada 等人：“利用激光光谱进行化学气相沉积的基础气相过程诊断”第四届激光辅助等离子体诊断国际研讨会论文集 432-436 (1989)。