レ-ザ-共鳴イオン化分光による非発光ラジカルの計測

通过激光共振电离光谱法测量非发射自由基

• 批准号: 02214223
• 负责人: 岡田 龍雄
• 金额: $ 1.66万
• 依托单位: Kyushu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1990
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1990 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-02214223/
• 关键词: レ-ザ-イオン化法; ジシラン; シリコン原子; 水素原子; 光解離; ArFレ-ザ-

CVDプロセス気相中のラジカルの検知や素過程の計測に各種のレ-ザ-分光法が用いられている。本研究でとりあげたレ-ザ-イオン化法(RIS)は,適用可能なラジカル種が多く,有力な計測手法として期待されている。昨年度までに,RISを他の計測法の適用が困難なメチルラジカルに適用してその有用性を示してきた。本年度は,Si系ラジカルへのRISの適用について研究を行なった。その際,これまで行なってきた素過程の計測に加え,絶対密度の較正法を確立してRISを新しい計測法として確立することに主眼を置いた。得られた結果をまとめると次のようである。1.ジシランをArFエキシマ-レ-ザ-で光解離し,RISによるラジカルの検知を行ない,Si原子,H原子が生成していることが確かめられた。2.Si原子は,Si_2H_6+hν(193nm)→SiH_4+Si+H_2の反応による生成であると特定された。3.Si原子を対象に絶対密度の較正法を確立した。これにより,生成しているSi原子の密度及び本測定の検知下限について定量的評価を行なった。4.Si原子,H原子について密度の時間変化を追跡した。その結果Si_2H_6はほとんど反応しないことが明らかになった。一方,HとSi_2H_6の反応係数は,1.1×10^<ー13>cm^3/sと求められた。

A variety of spectroscopic methods are used to measure the chemical processes in CVD phase. In this study, the RIS method is applicable to a variety of possible and powerful measurement techniques. In the past year,RIS has demonstrated the difficulty in applying other measurement methods and their usefulness. This year, the Si system was developed for the application of RIS. In addition to the measurement of the process of the first step, the new measurement method of the absolute density is established. The result is that 1. ArF 2. Si atom is formed from Si_2H_6 +hν(193nm)→SiH_4+Si+H_2. 3. Si atom contrast density is established. The density of Si atoms and the lower detection limit of this measurement are determined by quantitative evaluation. 4. Si atom,H atom density change time trace. The result is Si_2H_6. For a square,H Si_2H_6

项目成果

Tatsuo Okada 他: "In situ Detection of Metyl Radicals in Laser Chemical Vapor Deposition Environment by Resonance Ionization Spectrocscopy." Applied Physics Letters. 56. 1380-1382 (1990)

Tatsuo Okada 等人：“通过共振电离光谱法原位检测激光化学气相沉积环境中的甲基自由基”，《应用物理快报》56。1380-1382 (1990)。

Tatsuo Okada 他: "光およびプラズマを用いた薄膜堆積過程のレ-ザ-分光計測" 光学. 1. 2-9 (1991)

Tatsuo Okada 等人：“使用光和等离子体进行薄膜沉积过程的激光光谱测量”光学。 1. 2-9 (1991)