权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

レーザーアブレーション加工中の放出粒子の挙動に関する研究

激光烧蚀加工过程中发射粒子行为的研究

基本信息

批准号：
05239209
负责人：
岡田龍雄
金额：
$ 1.66万
依托单位：
Kyushu University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1993
资助国家：
日本
起止时间：
1993 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

レーザーアブレーションによる高温超伝導体薄膜の作成プロセス中の粒子挙動のその場計測にレーザー誘起蛍光法を適用し、アブレーション成膜プロセスにおけるエネルギーおよび粒子輸送について幾つかの知見が得られた。これらをまとめると以下のようである。(1)酸素ガス中のアブレーションでは、放出粒子はその大きな運動エネルギーにより衝撃波を駆動しながら進展するが、ターゲットからある点でその進展は停止する。その後、拡散より輸送される。(2)分子の内部エネルギーは、拡散段階でも1000K程度の高温に保たれている。(3)基板を粒子群の進展位置に対して何処に置くかで、基板との相互作用の様子が異なることを示した。(4)放出粒子の流体的振る舞いが、酸化程度、付着程度、クラスター化とも密接に関連していると推察される。本年度は、YO分子の挙動を中心にLIF計測を行ない、その結果を理想的な衝撃波モデルにより解釈し、レーザーアブレーションプロセスによる成膜メカニズムの考察を行なった。今後の課題は、粒子挙動のより詳細な把握を行ない、この解釈の妥当性を確認することである。

レーザーアブレーションによるHigh-temperature superconductor thin film production and particle oscillation field measurement にレーザーinduced light The method is applicable to the film-forming film of アブレーションプロセスにおけるエネルギーおよびParticle transportについて九つかの知见がgetられた.これらをまとめると下のようである. (1) Acid element ガス中のアブレーションでは, particle-releasing はその大きなkinetic エネルギーによしながら progress and stop する.その后、拡 scattered より Transportation される. (2) The internal temperature of the molecule and the dispersion stage are maintained at a high temperature of about 1000K. (3) The progress position of the particle group on the substrate is the same as the position of the particle group, and the interaction between the substrate and the substrate is different. (4) Observe the vibration, acidification, adhesion, and close connection of the fluid that releases the particles. This year's LIF measurement center for YO molecules and the results of the LIF measurement are ideal for this year.により解釈し、レーザーアブレーションプロセスによる Film-forming メカニズムのinvestigation を行なった. The future issues and details of the particle motion will be determined in detail, and the appropriateness of the solution will be confirmed.