反射型X線リソグラフィ-法によるパタ-ン縮小転写のためのX線光学系
使用反射式 X 射线光刻进行图案缩小转移的 X 射线光学系统
基本信息
- 批准号:01651504
- 负责人:
- 金额:$ 2.88万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
- 财政年份:1989
- 资助国家:日本
- 起止时间:1989 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
将来の微細加工技術としてX線を用いたパタ-ン転写法、すなわちX線リソグラフィ-法が注目されている。しかし、従来は、パタ-ンの描かれた厚み2,3ミクロンの薄膜マスクを試料に近接して置き、これにX線を透過させることにより原寸でパタ-ンの転写を行なっていたため、1)薄膜マスクの製作とその安定な維持が容易でない、2)パタ-ンが微細化するに従いマスクの位置合わせが困難となる、などの問題も指摘されていた。本研究は、パタ-ンの描かれた厚板パタ-ン反射板からの反射X線をミラ-により収束し、試料面上に2次元に縮小されたパタ-ンを投影転写するという、反射型X線リソグラフィ-法と名付けた新しい方法を開発し、従来法の持つ問題点を克服することを目標としたもので、当面は、反射縮小光学系に関する基礎的知見を得ることを目的としている。反射縮小光学系としてはシュワルツシルド型など2枚のミラ-を用いる系が知られていたが、試料面に到達するX線強度を減衰させないため、特に1枚のミラ-による2次元縮小光学系の開発を目指した。その結果、1)楕円の長軸、短軸から離し、かつ傾けた線を回転軸とする変則的な回転楕円体ミラ-を用いることにより、わずか1枚のミラ-によっても、250ミクロン×20ミクロンの狭い領域にではあるが、ボケ巾0.03ミクロン以内でパタ-ンの2次元縮小転写が可能なこと、2)同種のミラ-の並列配置により縮小転写領域を等価的に拡大できる可能性のあることをまず理論的に明らかにした。また、短波長レ-ザ-を光源として、この系によるパタ-ンの2次元縮小転写の実験的検証も試みている。
In the future, micro-machining technology will be written in the form of micro-processing technology, which will be used in the future. The thickness of the film is much thicker than that of the film. It is easy to use the film to maintain the stability of the film. 2) in this way, we can find out the location of the problem, and the location of the problem. In this study, the reflector is used to analyze the thickness of the thick plate, the reflector, the thick plate, the reflector, the reflector, the thick plate, the reflector, the reflector, the reflective X-ray, the new method and the method to overcome the problem. Reflect the knowledge of the department of small optics and the basic knowledge of the department of optics. The reflection system of the small Optics Department is very sensitive to the performance of the two-dimensional optical system. The system is used to know that the X-ray strength of the material is very high, and the performance of the small optics department is very high. The results are as follows: 1) long, short, short, 2) in the same category, there is a list of the possibility of configuring the same kind of information, such as those in the field of writing, etc., in order to explain the theory of theory. Short wave length, short wave length, short wave length,
项目成果
期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Hideki Matsumura,Yoshihide Watanabe: "Two-dimensional Demagnified Projection System Using a Single Focusing mirror.(tentative)" Appl.Optics.
Hideki Matsumura、Yoshihide Watanabe:“使用单聚焦镜的二维缩小投影系统。(暂定)”Appl.Optics。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Hideki Matsumura: "Theoretical Consideration on Demagnified X-Ray Lithography Using No Thin Film Pattern Masks." Proc.of 3rd Micro-Process Conf.(Jpn.J.Appl.Phys.).
Hideki Matsumura:“不使用薄膜图案掩模的缩小 X 射线光刻的理论思考。”
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Hideki Matsumura: "Silicon Nitride produced by catalytic chemical vapor deposition method." J.Appl.Phys.66. 3612-3617 (1989)
Hideki Matsumura:“通过催化化学气相沉积法生产氮化硅。”
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Yoshihide Watanabe: "A Hamilton Formalism for Evplution Equations with Odd Variables." Annali de Mat.pure ed appl.154. 127-146 (1989)
Yoshihide Watanabe:“带有奇变量的演化方程的汉密尔顿形式主义。”
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Hideki Matsumura: "Study on catalytic chemical vapor deposition method to prepare hydrogenated amorphous silicon." J.Appl.Phys.65. 4396-4402 (1989)
Hideki Matsumura:“催化化学气相沉积法制备氢化非晶硅的研究”。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
松村 英樹其他文献
松村 英樹的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('松村 英樹', 18)}}的其他基金
代数曲線の有理点問題の有理矩形求積公式及び有理三角形への応用
代数曲线有理点问题的有理矩形求积公式及其在有理三角形中的应用
- 批准号:
24KJ0183 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.88万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
触媒化学気相成長法によるシリコン系薄膜の成長プロセス
采用催化化学气相沉积的硅基薄膜生长工艺
- 批准号:
11895001 - 财政年份:1999
- 资助金额:
$ 2.88万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
常圧触媒CVD(Cat-CVD)法
常压催化CVD(Cat-CVD)法
- 批准号:
10875069 - 财政年份:1998
- 资助金额:
$ 2.88万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
酸化銅を用いた高移動度薄膜トランジスタの低温形成
使用氧化铜低温形成高迁移率薄膜晶体管
- 批准号:
07455148 - 财政年份:1995
- 资助金额:
$ 2.88万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
触媒CVD法による高移動度ポリ・シリコン膜の低温形成
催化CVD法低温形成高迁移率多晶硅薄膜
- 批准号:
04650268 - 财政年份:1992
- 资助金额:
$ 2.88万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
異方性フォト・レジストによるパタ-ン転写精度の向上
使用各向异性光刻胶提高图案转移精度
- 批准号:
03650327 - 财政年份:1991
- 资助金额:
$ 2.88万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
触媒反応を用いた新しいドライ・エッチング・クリ-ニング法の開発
利用催化反应开发新型干蚀刻清洗方法
- 批准号:
02650226 - 财政年份:1990
- 资助金额:
$ 2.88万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
触媒CVD法により作られるアモルファス半導体膜特性の触媒体依存性.
催化 CVD 产生的非晶半导体薄膜特性对催化剂的依赖性。
- 批准号:
63550236 - 财政年份:1988
- 资助金额:
$ 2.88万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
熱触媒反応を用いた高品質絶縁膜の低温形成
利用热催化反应低温形成高质量绝缘膜
- 批准号:
62550229 - 财政年份:1987
- 资助金额:
$ 2.88万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
触媒CVD法による高品質アモルファス半導体の光学バンドギャップの制御
利用催化 CVD 方法控制高质量非晶半导体的光学带隙
- 批准号:
61550230 - 财政年份:1986
- 资助金额:
$ 2.88万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)