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分光法による反応性プラズマ内の非発光ラジカル密度測定法の開発

分光法による反応性プラズマ内の非発光ラジカル密度測定法の開発
开发一种利用光谱测量反应等离子体中非发光自由基密度的方法
批准号：
02214105
负责人：
後藤 俊夫
金额：
$10.88万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1990
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1990 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-02214105/
关键词：
RFシランプラズマ赤外半導体レ-ザ-吸収法リング色素レ-ザ-吸収法SiH_3ラジカルCFラジカルCF_4プラズマレ-ザ-誘起蛍光法光イオン化質量分析法

项目摘要

项目成果

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プロセス用反応性プラズマの定量的研究を行うには、薄膜形成の前駆物質として重要な非発光ラジカルの密度を知る必要がある。本研究の目的は、赤外及び可視レ-ザ分光法を用いたプロセスプラズマ内の非発光ラジカル密度(絶対値)計測法を確立し、RFシランプラズマやエッチング系CF_4プラズマ内のラジカル密度測定を行うことである。また光イオン化質量分析法等による非発光ラジカルの反応速度定数の測定法の研究も行う。平成2年度研究成果平成元年度までに赤外半導体レ-ザ-吸収法によるシランプラズマ内のSiH_3ラジカルの密度及び拡散係数等の測定、SiH_2の赤外スペクトルの解明、直流パルスCF_4プラズマ内のCFラジカル密度の測定、飽和レ-ザ-誘起蛍光法によるA係数測定法の確立等を行った。また光イオン化質量分析法を用いて炭化水素系非発光ラジカルの反応速度定数を測定した。平成2年度はそれらの結果を発展させて次の成果を得た。1.赤外半導体レ-ザ-吸収法を用いて、RF励起CF_4プラズマ内のCFラジカルの密度及びその空間分布を測定した。2.同じ方法を用いてRFシランプラズマ内のSiH_3ラジカル密度とaーSi:H薄膜成長速度との相関を測定した。3.リング色素レ-ザ-吸収法を用いたSi原子密度測定法を確立し、RFシランプラズマ内の密度を測定した。4.飽和レ-ザ-誘起蛍光法を用いてSiH_2の可視振動回転線のA係数測定をすすめつつある。5.光イオン化質量分析法を用いてハロゲン化有機ラジカルの反応速度定数を測定した。
期刊论文(34)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
鷲田 伸明: "地球規模の大気環境問題" 化学と工業. 43. 1831 (1990)
Nobuaki Washida：“全球大气环境问题”化学与工业 43. 1831 (1990)。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
N.Itabashi: "SiH_3 radical density in pulsed silane plasma" Jpn.J.Appl.Phys.29. 585-590 (1990)
N.Itabashi：“脉冲硅烷等离子体中的 SiH_3 自由基密度”Jpn.J.Appl.Phys.29。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
後藤 俊夫: "赤外半導体レ-ザ吸収分光法によるラジカルの計測" 光学. 20. 10-14 (1991)
Toshio Goto：“通过红外半导体激光吸收光谱测量自由基”《光学》20. 10-14 (1991)。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
T.Goto: "Measurement of the Si atom density in RF silane plasma using absorption spectroscopy" IEEE Int.Conf.on Plasma Science (Oakland,California). 5A5. 200-201 (1990)
T.Goto：“使用吸收光谱法测量 RF 硅烷等离子体中的 Si 原子密度”IEEE Int.Conf.on Plasma Science（加利福尼亚州奥克兰）。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
共 17 条
    ソリトンパルスによるパルス捕捉を用いたパルス光の波長制御・スイッチング
    • 批准号：
      14041206
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • 资助金额：
      $4.35万
    • 财政年份：
      2002
    • 负责人：
      後藤 俊夫
    • 依托单位：
      Nagoya University
    環境調和量子反応制御プロセスに関する調査研究
    • 批准号：
      11895002
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $1.15万
    • 财政年份：
      1999
    • 负责人：
      後藤 俊夫
    • 依托单位：
      Nagoya University
    動的天然物化学研究推進のための総合的研究
    • 批准号：
      01307015
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Co-operative Research (B)
    • 资助金额：
      $0.0万
    • 财政年份：
      1989
    • 负责人：
      後藤 俊夫
    • 依托单位：
      Nagoya University
    分光法による反応性プラズマ内の非発光ラジカル密度測定法の開発
    • 批准号：
      01632006
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • 资助金额：
      $11.14万
    • 财政年份：
      1989
    • 负责人：
      後藤 俊夫
    • 依托单位：
      Nagoya University