ハイブリッド放電による反応性プラズマと成膜の制御
通过混合放电控制反应等离子体和薄膜沉积
基本信息
- 批准号:02214224
- 负责人:
- 金额:$ 1.41万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
- 财政年份:1990
- 资助国家:日本
- 起止时间:1990 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
我々は反応性プラズマの制御を目的として、マイクロ波プラズマと高周波プラズマを混成したハイブリッドプラズマ装置を開発し、一昨年度および昨年度の本研究関連課題で、ハイブリッドプラズマにおけるプラズマ諸量及び成膜速度の制御性能について明らかにした。今年度はシランおよびメタンガスを用いた反応性ハイブリッドプラズマの分光計測を行い、ハイブリッドプラズマの特徴を更に明確にした。ここでは、成膜速度や膜質に影響を与えると考えられる反応性ガスのラジカルについて高周波極間の発光強度の空間分布を測定した。その結果次のことが明らかとなった。発光強度がラジカル密度に比例しているものとすると、ハイブリッドプラズマにおけるラジカル生成量は、マイクロ波プラズマ、高周波プラズマをそれぞれ単独に生成して得られるラジカル生成量の和よりも大きくなることが特徴的である。この結果は本ハイブリッドプラズマ装置が反応性プラズマの生成に有用であることを裏付けている。またハイブリッドプラズマにおいて、発光強度の空間分布はプロ-ブ計測から求めた電子密度の空間分布と対応していることもわかった。更に、高周波プラズマにおけるCHラジカルとSiHラジカルの発光強度に対するハイブリッドプラズマ、マイクロ波プラズマのそれらの発光強度比を調べた。その結果、マイクロ波プラズマの場合、SiHラジカルの生成効率はCHラジカルの生成効率より高いが、ハイブリッドプラズマではSiHラジカルの生成効率とCHラジカルの生成効率は同程度であることが明らかになった。
The purpose of this study is to develop a hybrid device for controlling the film formation rate. The related topics of this study are: the control performance of the film formation rate and the control performance of the film formation rate. This year, the characteristics of the spectrometer are more clearly defined. The influence of film formation speed and film quality on the spatial distribution of light emission intensity between high frequency electrodes was measured. The result is that the number of times the sun rises is higher than the number of times the sun rises. The intensity of light emission is proportional to the intensity of light emission. The intensity of light emission is proportional to the intensity of light emission. The intensity of light emission is proportional to the intensity of light emission. The result is that the device has a negative effect on the quality of the product. The spatial distribution of the emission intensity is measured and the spatial distribution of the electron density is calculated. In addition, the emission intensity of the high frequency wave is adjusted. As a result, the generation efficiency of SiH is higher than that of CH, and the generation efficiency of SiH is higher than that of CH
项目成果
期刊论文数量(6)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Yoshihiro Okuno,Hiroharu Fujita: "Potential formation near powered electrode in rf driven discharge" Applied Physics of Letters. (1991)
Yoshihiro Okuno、Hiroharu Fujita:“射频驱动放电中通电电极附近的电势形成”应用物理学。
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- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Yoshihiro Okuno,Shinya Yagura Hiroharu Fujita: "Observation of a magnetized lowーpressure rf plasma for thinーfilm preparation" Journal of Applied Physics. 69. 146-150 (1991)
Yoshihiro Okuno、Shinya Yagura Hiroharu Fujita:“用于薄膜制备的磁化低压射频等离子体的观察”应用物理学杂志 69. 146-150 (1991)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Hiroharu Fujita,Yoshihiro Okuno,Yasunori Ohtsu,Shinya Yagura: "Control of plasma parameters and electric fields in a microwaveーrf hybrid plasma" Journal of Applied Physics. 67. 6114-6117 (1990)
Hiroharu Fujita、Yoshihiro Okuno、Yasunori Ohtsu、Shinya Yagura:“微波-射频混合等离子体中的等离子体参数和电场的控制”应用物理学杂志 67. 6114-6117 (1990)。
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- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
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