表面光触媒反応による半導体薄膜成長に関する基礎研究

表面光催化反应生长半导体薄膜的基础研究

基本信息

  • 批准号:
    02253208
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.73万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1990
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1990 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

光励起プロセスの新しい概念である表面光触媒反応による半導体薄膜の成長に関して,成長機構の解明,概念の確立,新構造の作製・物性制御への応用を目的とした研究を行った。得られた結果を下に記す。1.ZnSe,ZnSおよび混晶ZnSSeの有機金属気相成長(MOVPE)におけるキセノンランプ光照射効果を調べ,特にH_2キャリアガス濃度と成長速度の関係から,光照射が原料のアルキル基の脱離促進に寄与していることが判明した。2.IIーVI族半導体を対象として行ってきた従来の研究の普遍化を目指し,GaAs成長における光照射効果を調べた。その結果,アルキル基の脱離促進を示唆する炭素濃度の低減,それに基く電気的・光学的特性の向上が見られたほか,低温成長における表面モホロジが向上した。3.ZnSeのMOVPE成長中の雰囲気の質量分析を行い,下地材料の禁制帯幅より高いエネルギ-の光照射によって,表面での光化学反応により原料のアルキル亜鉛の分解が促進されることがわかった。またこの光化学反応が起こるには300℃以上の熱エネルギ-が必要である。これらの結果を基に,表面に化学吸着したアルキル亜鉛が,光照射により表面に生じたキャリアを受けてアルキル基を脱離させ,その結果表面に表れた亜鉛の活性なボンドと気相中のアルキルセレンとが反応して成膜する,というモデルを提案した。4.従来の研究では,光照射下で成長したZnSeには多数のドナ性不純物が混入し,またZnSSe混晶の組成制御性に問題があったが,本研究により,高純度アルキル亜鉛の使用,400nmより長波長光のカット,成長条件の最適化により,成長層の高品質化を達成しえた。そのため今後光照射下での高いド-ピング効率を活かした伝導性制御を可能としうる見通しが得られた。
The new concept of photoexcitation, the relationship between surface photocatalyst reaction and semiconductor thin film growth, the explanation of growth mechanism, the establishment of new structure, the preparation of physical properties and the purpose of research The results are recorded below. 1. The effect of light irradiation on organic metal vapor phase growth (MOVPE) of ZnSe, ZnS and ZnSSe mixed crystals was investigated. In particular, the relationship between H_2 concentration and growth rate was investigated. 2. Generalization of the study of group II to VI semiconductor imaging, and modulation of GaAs growth by light irradiation As a result, the separation of carbon atoms is promoted by a decrease in carbon concentration, and the electrical and optical characteristics of carbon atoms are increased. 3. The quality analysis of ZnSe MOVPE growth, the inhibition band amplitude of the underlying material, the high temperature of light irradiation, the photochemical reaction on the surface, the decomposition of lead in the raw material, and the promotion of the decomposition of lead. The photochemical reaction is necessary for heat generation above 300℃. As a result of this, the surface chemisorption of lead occurs, and the surface chemisorption of lead occurs. 4. In recent studies, ZnSe grown under light irradiation does not contain most of the impurities, and ZnSSe mixed crystal composition control problems. In this study, the use of high-purity ZnSe lead,400nm long wavelength light, optimization of growth conditions, high quality of the growth layer to achieve. Under the illumination of light, the transmission efficiency is high, and the transmission control is low.

项目成果

期刊论文数量(4)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
藤田 静雄: "PhotoーAssisted Metalorganic Vapor Phase Epitaxial Growth of WideーGap IIーVI Semiconductors(招待論文)" Journal of Crystal Growth.
Shizuo Fujita:“宽禁带 II-VI 半导体的光辅助金属有机气相外延生长(特邀论文)”晶体生长杂志。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
藤田 静雄: "Observation of Photoinduced Alkyl Group Elinination from Precursors in Organometallic VaporーPhase Epitaxy of ZnーBased IIーVI Semiconductors" Japanese Journal of Applied Physics.
Shizuo Fujita:“Zn 基 II-VI 半导体有机金属气相外延中前体光致烷基消除的观察”,日本应用物理学杂志。
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  • 发表时间:
  • 期刊:
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  • 通讯作者:
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知道了