超機能化グローバル・インターフェース・インテグレーション研究
超機能化グローバル・インターフェース・インテグレーション研究
批准号:
12058101
负责人:
堀池 靖浩
金额:
$13.89万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
2000
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2000 至 2004
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平成12年9月に発足した本特定領域研究は、最終年度に当たる平成15年度まで活発な研究活動及び研究広報活動を行い、注目すべき研究成果が多く得られた。具体的には学術論文681報、国際学会発表944件、研究会など308件、学術講演会などでの発表843件、解説記事・著書99件、出願特許(公開、成立を含む)180件、受賞42件、新聞発表72件の学術的成果に加え、本領域研究の成果がきっかけとなり設立されたベンチャー企業が10社、本領域研究の成果をもとに実用化された製品が4製品などである。平成16年3月1日、2日(東京、一ツ橋記念講堂)の最終報告会では、口頭発表21件、成果展示デモ47件、参加者280名におよんだが、これらの研究成果を研究成果報告書としてまとめて記録刊行し、かつ広く公開普及するために、以下の計画を実施した。(1)研究成果報告書の刊行:本特定領域研究での成果を広く発信するために、研究成果報告書を刊行した(総ページ数554頁)。この報告書は関係研究者へ配布した。(2)研究成果報告書を電子版(CD-ROM)として刊行した。(3)あわせてweb上に成果を公表した(URL http://masu-www.pi.titech.ac.jp/~global/pub/index.html)。Web上ではすでに成果の一部を常に公開してきたが、最終報告会の概要および研究成果概要集、事後評価の審査結果のお知らせ等、随時ホームページを更新した。(本ホームページはさらに1、2年間は継続予定。)平成16年10月18日に行なわれた科学技術・学術審議会学術分科会科学研究費補助金審査部会理工系委員会による事後評価の結果、本領域研究はA+(期待以上の研究の成果があった)の高い評価をいただいた。
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M.Yanagisawa, S.Iida, Y.Horiike: "Numerically Controlled Dry Etching Technology for Flattening of Si Wafer which Employs SF_6/H_2 Downstream Plasma"Jpn. J. Appl. Phys.. 41. 2791-2795 (2002)
M.Yanagisawa、S.Iida、Y.Horiike:“采用 SF_6/H_2 下游等离子体的硅晶圆平坦化数控干蚀刻技术”Jpn。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
H.Yoshiki, A.Oki, H.Ogawa, Y.Horiike: "Generation of a capacitively coupled microplasma and its application"J. Vac. Sci. Technol.. A20(1). 24-29 (2002)
H.Yoshiki、A.Oki、H.Okawa、Y.Horiike:“电容耦合微等离子体的生成及其应用”J。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Hiroyuki Yoshiki, Akio Oki, Hiroki Ogawa, Yasuhiro Horiike: "Generation of a capacitively coupled microplasma and its application to the inner-wall modification of a poly(ethylene terephthalate) capillary"J. Vac. Sci. Technol.. A20(1). 24-29 (2002)
Hiroyuki Yoshiki、Akio Oki、Hiroki Okawa、Yasuhiro Horiike:“电容耦合微等离子体的生成及其在聚对苯二甲酸乙二醇酯毛细管内壁改性中的应用”J。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
N.Kaji, Y.Tezuka, Y.Takamura, M.Ueda, T.Nishimoto, H.Nakanishi, Y.Horiike, Y.Baba: "Fast Separation of Long DNA Molecules by Nanopillar Chips under a Direct Current Electric Field"Anal.Chem.. 76(1). 15-22 (2004)
N.Kaji、Y.Tezuka、Y.Takamura、M.Ueda、T.Nishimoto、H.Nakanishi、Y.Horiike、Y.Baba:“直流电场下纳米柱芯片快速分离长 DNA 分子”分析
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
K.Taniguchi, T.Fukasawa, H.Yoshiki, Y.Horiike: "Generation of Integrated Atomospheric-Pressure Microplasma"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 6584-6589 (2003)
K.Taniguchi、T.Fukasawa、H.Yoshiki、Y.Horiike:“集成大气压微等离子体的生成”Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 6584-6589 (2003)
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 28 条
次世代多層配線プロセス新微細加工技術の研究
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批准号:13025212
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$58.43万
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财政年份:2001
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负责人:堀池 靖浩
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依托单位:
ハロゲン原子によるSi表面単原子層形成とその低エネルギー除去に関する研究
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批准号:08455022
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$5.63万
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财政年份:1996
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负责人:堀池 靖浩
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依托单位:
水素及びハロゲンラジカルとシリコン表面の単原子反応の制御
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批准号:06228222
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1994
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负责人:堀池 靖浩
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依托单位:
水素及びハロゲンラジカルとシリコン表面の単原子層反応の制御
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批准号:05237223
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.66万
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财政年份:1993
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负责人:堀池 靖浩
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依托单位:
電子波デバイス用基板のディジタル・エッチングによる無損傷加工に関する研究
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批准号:03237107
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$0.96万
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财政年份:1991
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负责人:堀池 靖浩
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依托单位:
電子波デバイス用基板のディジタル・エッチングによる無損傷加工に関する研究
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批准号:02251107
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.6万
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财政年份:1990
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负责人:堀池 靖浩
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依托单位:
海外基金