触媒作用を利用したシリコンへの微細配線形成技術の開発

利用催化作用开发硅微细布线形成技术

基本信息

  • 批准号:
    20035008
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.94万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    2008
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2008 至 2009
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

触媒反応を利用したウエットプロセスによるシリコンの微細加工技術開拓の基礎として、触媒針を用い、その電位を外部から制御しながらそれをシリコンウエハに接触させ、シリコンへの孔形成過程を詳しく調べた。触媒針として直径100μmの細線を、金属の種類を変えて用いて孔形成を調べると、Ir,Pt,Pdにより良好な細孔が形成された。ある速度での孔形成を実現するための電位は、Pdが最も低く、IrとPtはほぼ同程度であった。このことは、Pdが孔形成の触媒能が強いことを示しているが、孔の形状を制御しにくいという問題があることが分かった。直径100μmPt針電極を用いて、シリコンウエハの特性と孔形成の関係を調べると、同じ電位においては、p型、n型によらず、ほぼ同じ速度で孔形成が起こることが確認された。ただし、p型のウエハに対しては、形成される孔に対して多くの電流が流れ、特に、比抵抗の小さいウエハについては、孔形成の電流効率は0.1%程度にまで低下した。一方、n型のウエハでは、電流効率が高く、1Ωcm以上の比抵抗のシリコンウエハについては、20%以上の電流効率となった。これらの結果に基づいて、触媒針とシリコンの接触箇所の周辺において、シリコンの電位分布が触媒針の電位、針と溶液界面の電気二重層、シリコンと溶液界面の電気二重層などにより決まっており、それらによってシリコンウエハの特性により、触媒針接触部分での溶解と、シリコン内への正孔注入の量的関係が変化するモデルを提唱した。孔の位置制御のために、マニュピュレーター付触媒針による加工装置を作製し、任意の形状の溝形成が行えることを実証した。ドライプロセスによる微細孔形成、SiCへの微細孔形成は、その速度が遅く、良好な微細加工技術への展開の見通しは立っていない。
The foundation of micromachining technology development of catalyst reaction, catalyst reaction The catalyst needle has a diameter of 100μm, and the type of metal is used to adjust the pore formation. Ir,Pt,Pd are used to form fine pores. The hole formation rate is the lowest, and the Pt is the lowest. The catalyst for pore formation is strong, and the pore shape is controlled. Pt needle electrode with diameter of 100μ m is characterized by the following characteristics: hole formation, hole formation. The current efficiency of the hole formation is lower than 0.1%, especially the current efficiency of the hole formation is lower than the current efficiency of the hole formation. High current efficiency, 1Ωcm or more specific resistance, 20% or more current efficiency As a result of this, the catalyst needle contacts the surrounding area, the potential distribution of the catalyst needle, the electric double layer at the needle/solution interface, the electric double layer at the solution interface, the dissolution of the catalyst needle contact area, and the characteristics of the catalyst needle contact area. The relationship between the amount of positive hole injection in the cavity is changed. The position of the hole is controlled, and the processing device is controlled, and the groove of any shape is formed. Micro-hole formation, SiC micro-hole formation, high speed, excellent micro-machining technology development, and high efficiency.

项目成果

期刊论文数量(15)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
電気化学的エッチング反応を利用したシリコンブロックのスライシング
利用电化学蚀刻反应进行硅块切片
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    李佳龍;神田裕士;Mohamed Shaker Salem;池田茂;松村道雄
  • 通讯作者:
    松村道雄
Siナノホールの作製と超臨界CO2によるCu埋め込み(2)
使用超临界 CO2 制造 Si 纳米孔和 Cu 填充 (2)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H.Yang;D.Wang;H.Nakashima;玉井架
  • 通讯作者:
    玉井架
Siナノホールの作製と超臨界CO2によるCu埋め込み(1)
使用超临界 CO2 制造 Si 纳米孔和 Cu 填充 (1)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H.Yang;D.Wang;H.Nakashima;玉井架;本多周太 et al.;玉井架;玉井架
  • 通讯作者:
    玉井架
触媒粒子を用いたエッチングにより形成されるシリコンの新規表面構造
使用催化剂颗粒蚀刻形成的硅新表面结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    神田裕士;原田隆史;松村道雄
  • 通讯作者:
    松村道雄
触媒針電極を用いたシリコン基板への貫通孔の形成
使用催化剂针电极在硅基板上形成通孔
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    杉田智彦
  • 通讯作者:
    杉田智彦
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  • 通讯作者:
    小野 幸子
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  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    津留 親佑;圓山 洋介;松村 道雄;成田 昌平;齋藤 洋司
  • 通讯作者:
    齋藤 洋司

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    2007
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    $ 2.94万
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  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 2.94万
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  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 2.94万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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  • 批准号:
    14050057
  • 财政年份:
    2002
  • 资助金额:
    $ 2.94万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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  • 批准号:
    99F00305
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    $ 2.94万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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  • 批准号:
    11118248
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 2.94万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
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  • 批准号:
    10131245
  • 财政年份:
    1998
  • 资助金额:
    $ 2.94万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
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