Growth of bilayer graphene with various orientation angles using high degree reduction of graphene oxide and its structural analysis

氧化石墨烯高度还原生长不同取向角的双层石墨烯及其结构分析

基本信息

  • 批准号：
    15K17439
  • 负责人：
    Obata Seiji
  • 金额：
    $ 2.5万
  • 依托单位：
    The University of Tokyo
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份：
    2015
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2015-04-01 至 2018-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（22）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
六方晶窒化ホウ素上での酸化グラフェンからのグラフェン直接成長
六方氮化硼上氧化石墨烯直接生长石墨烯
  • DOI：
  • 发表时间：
    2017
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    小幡 誠司;谷口 尚;渡邊 賢司;斉木 幸一朗
  • 通讯作者：
    斉木 幸一朗
絶縁基板上でのメタンプラズマを用いた 酸化グラフェンからのグラフェン生成Ⅱ～金属触媒を用いた高品質化・低温合成～
在绝缘基板上使用甲烷等离子体从氧化石墨烯生产石墨烯 II - 使用金属催化剂的高质量低温合成 -
  • DOI：
  • 发表时间：
    2015
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    小幡　誠司;佐藤　稔;赤田　圭史;斉木　幸一朗
  • 通讯作者：
    斉木　幸一朗
CH4/H2プラズマを用いた酸化グラフェンからの2層グラフェン生成
使用 CH4/H2 等离子体从氧化石墨烯生产双层石墨烯
  • DOI：
  • 发表时间：
    2017
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    小幡 誠司;斉木 幸一朗
  • 通讯作者：
    斉木 幸一朗
CH4/H2プラズマを用いた酸化グラフェンからの高結晶性グラフェン合成 ~ガス比の影響と高品質化~
使用CH4/H2等离子体从氧化石墨烯合成高结晶石墨烯〜气体比例和高质量的影响〜
  • DOI：
  • 发表时间：
    2016
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    小幡　誠司;斉木　幸一朗
  • 通讯作者：
    斉木　幸一朗
六方晶窒化ホウ素上での高結晶性グラフェンナノリボン大量合成
六方氮化硼上高结晶石墨烯纳米带的大规模合成
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    小幡 誠司;谷口 尚;渡邊 賢司;斉木 幸一朗
  • 通讯作者：
    斉木 幸一朗
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    Sekine Toshimori
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  • 影响因子：
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  • 通讯作者：
    Li Shisheng
Burton-Cabrera-Frank モデルに基づいた不純物分配係数の新しい解析解
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  • 通讯作者：
    三浦均

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  • 资助金额：
    $ 2.5万
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    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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    2023
  • 资助金额：
    $ 2.5万
  • 项目类别：
    Standard Grant
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  • 财政年份：
    2023
  • 资助金额：
    $ 2.5万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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