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Directed self-assembly for fabrication of organic devices with sub-20 nm resolution
用于制造亚 20 nm 分辨率有机器件的定向自组装
基本信息
- 批准号：16K20912
- 负责人：
- 金额：$ 2.66万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份：2016
- 资助国家：日本
- 起止时间：2016-04-01 至 2018-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（16）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Growth of aluminum oxide on, in imprinted resin patterns by an atomic layer deposition technique
通过原子层沉积技术在压印树脂图案上生长氧化铝
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Nobuya Hiroshiba;Shiho Kuroyanagi;Masaru Nakagawa
- 通讯作者：Masaru Nakagawa
Anisotropic oxygen reactive ion etching for removing a residual layer of 45-nm-linewidth imprint patterns
用于去除 45 纳米线宽压印图案残留层的各向异性氧反应离子蚀刻
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Takuya Uehara;Shoichi Kubo;Nobuya Hiroshiba;Masaru Nakagawa
- 通讯作者：Masaru Nakagawa
逐次浸透合成によるポジ型電子線レジストの有機－無機ハイブリッド化
顺序渗透合成正电子束抗蚀剂的有机-无机杂化
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：尾崎優貴;伊東駿也;廣芝伸哉;中村貴宏;中川勝
- 通讯作者：中川勝
Crystallographic Polarity Effect of ZnO on Thin Film Growth of Pentacene
ZnO 晶体极性对并五苯薄膜生长的影响
- DOI：10.7567/jjap.56.04cj03
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：Tatsuru Nakamura;Takahiro Nagata;Ryoma Hayakawa;Takeshi Yoshimura;Seungjun Oh;Nobuya Hiroshiba;Toyohiro Chikyow;Norifumi Fujimura;Yutaka Wakayama
- 通讯作者：Yutaka Wakayama
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Hiroshiba Nobuya其他文献
テラヘルツレーザー分光測定とその応用
太赫兹激光光谱测量及其应用
- DOI：
- 发表时间：
2023 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Hiroshiba Nobuya;Akiraka Mitsuru;Kojima Hirotaka;Ohnishi Satoshi;Ebata Atsushi;Tsuji Hideto;Tanaka Saburo;Koike Kazuto;Ariyoshi Seiichiro;佐々木哲朗 - 通讯作者：
佐々木哲朗
Hiroshiba Nobuya的其他文献
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相似海外基金
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13J00730 - 财政年份：2013
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$ 2.66万 - 项目类别：
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23656461 - 财政年份：2011
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$ 2.66万 - 项目类别：
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