Scanning probe nanolithography on insulating substrates

绝缘基板上的扫描探针纳米光刻

• 批准号: 23656461
• 负责人: SUGIMURA Hiroyuki
• 金额: $ 2.66万
• 依托单位: Kyoto University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23656461/
• 关键词: 走査プローブ顕微鏡; ナノリソグラフィ; 自己集積化単分子膜; ナノプロープリソグラフィ

Self-assembled monolayers of alkylphosphonic acid was used as a resist film for nanoprobe lithography because SAMs are ultrathin films with a thickness of only 2-3 nm and they can be easily prepared. Highly-ordered and low-defect-density alkylphosphonic SAMs were successfully formed on aluminum oxide films by just immersing the films in an ethanolic solution containing an alkylphosphonic acid, and we concluded that they were more suitable for the resist film than alkylsilane SAMs.

由于自组装的烷基膦酸单层膜是一种厚度仅为2 ~ 3 nm的超薄薄膜，易于制备，因此采用自组装的烷基膦酸单层膜作为纳米探针光刻的抗蚀膜。在含有烷基膦酸的乙醇溶液中，在氧化铝膜上成功地形成了高有序、低缺陷密度的烷基膦酸型SAMs，表明它们比烷基硅烷型SAMs更适合用于抗蚀剂膜。

项目成果

Fabrication of Gold Nanoparticle Array for Plasmon Waveguide Using Scanning Probe Lithography

使用扫描探针光刻技术制造用于等离子波导的金纳米颗粒阵列

• 发表时间: 2012
• 作者: M. Kuwata;T. Ichii;T. Narushima;E. Kazawa;H. Okamoto;I. Nakamura;K. Murase;H. Sugimura
• 通讯作者: H. Sugimura

金ナノ粒子配列型近接場光導波路の作製

金纳米颗粒阵列近场光波导的制备

• 发表时间: 2011
• 作者: 桑田真成;一井崇;加沢エリト;中村勲;邑瀬邦明;杉村博之
• 通讯作者: 杉村博之

走査プローブリソグラフィによる金ナノ粒子を用いた光導波路作製

通过扫描探针光刻使用金纳米粒子制造光波导

• 发表时间: 2011
• 作者: 桑田真成;一井崇;加沢エリト;中村勲;邑瀬邦明;杉村博之
• 通讯作者: 杉村博之