界面の制御による材料作製プロセス

通过控制接口的材料制造过程

• 批准号: 62604011
• 负责人: 河合 七雄
• 金额: $ 7.17万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1987
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1987 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-62604011/
• 关键词: 界面制御; レーザCVD; エピタキシャル薄膜; ゾルゲル法; 細孔径分布の制御; モンモリロナイトの層間化合物; 固相接合界面

1.エキシマレーザを光源とし, サファイア(001)面上にSic薄膜を作製した. アセチレンとジシランを原料ガスとし, キャリアガスを用いずにベース圧力1×10^<-6>Pa以下の低圧, 1200°Cの比較的低い基板温度で作製した. 45°照射の場合, 12%の格子不整合にもかかわらず3C型構造のSicかエピタキシャル成長した. 平行照射では多結晶膜になる. エピタキシャル膜は柱状に成長しており, 結晶性に関してはまだ改善の余地がある. この膜は従来見られなかった青〜緑のカソードルミネッセンスを示す2.ゾルゲル合成法でシリカガラスを作製する条件を検討し, ゲルー溶媒界面及び粒子の形状と集合状態を制御することが重要であることが明らかになった. TEOSゾルに曳糸性をもたせるためには, 粒子が一次元粒子として振舞うまでゾルを濃縮する必要がある. 他方この溶液からゲル体を作製する場合は, DMFを溶液に加えておくとよいことを見いだした. DMFは大きな細孔径をもつゲル体を生成するとともに, その小さな表面張力が乾燥時の発生応力を小さくし, 得られたゲル体の破壊を防いでいる.3.モンモリロナイトの層間に負に帯電したシリカゾルを直接挿入することはできないが, ゾルに3価の鉄塩を加えてオリゴマー水酸化物イオンとし, シリカ粒子の表面に付着させて正に帯電させることにより, 層間に挿入することが可能になった. これを500°Cに加熱すると, 層間約40A2F2(コード), 比表面積400m^2g^<-1>ミクロポア多孔体が得られた. 細孔径分布は10A2F2(コード)付近にピークをもち, 層間距離よりもかなり小さいものとなっている.4.アルミナとニオブ金属の固相接合界面を電子顕微鏡を用いて観察した. 両者の界面に, 厚さ0.15μmの中間相CaO・6AL_2O_3が生成することが明らかになった. この中間相はアルミナとのエピタキシー関係がよく接合界面を強固にしている.

1. The Sic film on the (001) surface is used as a light source. The temperature of the raw material is lower than 1 × 10 ^ & lt;-6>Pa, and the substrate temperature is lower than 1200 °C. After 45 °irradiation, 12% of the lattices were unintegrated, and the growth rate of type 3C was increased by Sic radiation. Parallel irradiation of multi-crystal film. Because of the growth of the membrane and the growth of the columnar structure, there is room for improvement of the crystal properties. I'd like to see you in the film. I'd like to see you. The synthesis method, the conditions, the solvent interface and the shape of the particles. TEOS, drag, drag, dance, dance and dance. The solution of the other party will be used as a combination, and the solution of DMF will be added to the solution of the other party. The system of DMF has a large aperture and a small surface force when it is dry, so it can be used to prevent damage. In the middle of the air, the temperature is very high, the temperature is very high. The specific surface area is 400m ^ 2g ^ & lt;-1>. The porous body is much better than the 40A2F2. The aperture distribution (10A2F2) is close to the temperature range, and the distance distance between the two is very small. 4. The solid phase bonding interface of metal alloy is used to inspect the interface of electron micrometer. The thickness of the interface is 0.15 μ m, and the phase CaO ·6AL _ 2O_3 is generated. In the middle of the phase, the interface is strengthened.

项目成果

Hirohide NAKAMATSU: Materials Research Society Smyposia Proceeding. 97. 189-194 (1987)

Hirohide NAKAMATSU：材料研究学会 Smyposia 论文集。