界面の制御による材料作製プロセス

通过控制接口的材料制造过程

基本信息

  • 批准号:
    63604017
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 16.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1988
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1988 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

1.レーザーCVD法によるSiC膜の成長に対して、反応初期にのみ基板照射の効果がある。無照射では板状結晶が基板に垂直に島状に生成するが、光照射した場合には基板を覆うように層状に結晶が成長する。この効果には3.80nmより短波長の光が有効であった。GaN薄膜では気相の光励起を有効に利用して生成温度を500℃まで低下できた。今後は光励起種、基板表面での光脱離反応・核生成および表面構造を有機的に関連づけて反応を解析し、薄膜形成時の界面制御を目指す。2.アルコキシシラン溶液中でのゾルーゲル合成の初期反応を明らかにし、得られたシリカゲル体(平均細孔径160〓)の各種溶媒に対する安定性を、毛管力とゲル骨格の強さに基づいて説明した。今後は同ゲル体の加熱による弾性率の変化を調べ、界面制御について知見を得る。3.アルミナ-ニオブ系のセラミックー金属直接接合界面について、高分解能電子顕微鏡を用いてその界面構造を原子配列レベルで解析することができた。今後は、実用上重要な窒化ケイ素ーニッケル系接合界面、および高温超伝導体を取り上げ、それらの接合組織の解析を進める。4.層状ケイ酸塩層間で新しい二次元構造の水酸化銅を形成した。新たに合成したニオブの複酸化物で、インターカレーションによる混合アルカリイオン層を形成した。またβーZrClNへの水素吸蔵がNーN層間で起きることを見出し、導電性増加の機構を考察した。今後は得られた層間化合物の物性測定と、板状ZrN合成への応用を計画している。5.ミスト熱分解法により、BaーYーCuーO、およびBiーSrーCaーCuーO系超伝導薄膜を作製した。種々の製膜条件を最適化し、Tcがそれぞれ35、63Kの膜を得た。またinーsitu観察用小型STMを開発した。今後このSTMを製膜装置に組み込み、表面観察を通じて原子オーダーでの反応制御を目指す。
1. レ ー ザ ー CVD method に よ る SiC membrane の growth に し seaborne て, anti early 応 に の み substrate irradiation の unseen fruit が あ る. No irradiation で は tabular crystal が substrate に vertical に island に generated す る が, light し た occasions に は substrate を fu う よ う に layered に crystallization が growth す る. The <s:1> effect of に に 3.80nmよ <s:1> short-wavelength <s:1> light が is effective であった. GaN films are で で in phase <s:1> photoexcited を, which is effective for に utilization of the て generation temperature を500℃ and まで low で た た た. Future は wound up the kind of light, the substrate surface で の light from generated お 応 · nuclear よ び を surface structure of organic に masato even づ け て anti 応 を parsing し, film formed の interface suppression を refers す. 2. ア ル コ キ シ シ ラ ン solution で の ゾ ル ー ゲ ル against early synthetic の 応 を Ming ら か に し, ら れ た シ リ カ ゲ ル body (average diameter 160 〓) の various solvent に す seaborne る stability を, capillary force と ゲ ル strong bone の さ に base づ い て illustrate し た. In the future, <s:1> is the same as that of ゲ ゲ <s:1> body <s:1> heating による elastic rate <e:1> change を regulation べ, interface control に る て て て て knowledge を obtained る. 3. ア ル ミ ナ - ニ オ ブ is の セ ラ ミ ッ ク ー metal bonding interface directly に つ い て, high decomposition can electronic 顕 micro mirror を い て そ の interface construction を atomic columns レ ベ ル で parsing す る こ と が で き た. Important な は in future, be used smothering the ケ イ element ー ニ ッ ケ ル joint interface, お よ び high temperature super 伝 conductor を り げ, そ れ ら の joint organization の parsing を into め る. 4. Layered ケ salt interlayer で new <s:1> ケ two-dimensional structure <s:1> water acidified copper を formation <s:1> た. New た に synthetic し た ニ オ ブ の after acidification で, イ ン タ ー カ レ ー シ ョ ン に よ る mixed ア ル カ リ イ オ を ン layer formed し た. Youdaoplaceholder0 β <s:1> ZrClNへ <s:1> hydrogen absorption がN <e:1> between N layers で が る る とを とを とを とを とを とを また an increase in conductivity <s:1> mechanism を examines た た. In the future, the determination of the physical properties of られた interlayer compounds と and the synthesis of plate-like ZrN へ <s:1> 応 will be carried out using the を plan for <s:1> て る る る る. 5. ミ ス ト thermal decomposition に よ り, Ba ー Y ー Cu ー O, お よ び Bi ー Sr ー Ca ー Cu ー O is super 伝 guide film を cropping し た. The 々 <s:1> film-making conditions を were optimized for <s:1>, Tcがそれぞれ35, 63K <s:1> films を to obtain た. Youdaoplaceholder0 in 観 situ観 to observe the development of a small STMを た. Future こ の STM を membrane device に group み 込 み, surface 観 examine を じ て atomic オ ー ダ ー で の anti 応 suppression を refers す.

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
I.HASEGAWA: J.Organometallic Chemistry. 340. 31-36 (1988)
I.HASEGAWA:J.有机金属化学。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
大西俊英: 東京大学工学部総合試験所年報. 47. 97-101 (1988)
Toshihide Onishi:东京大学工程学院综合实验室年度报告 47. 97-101 (1988)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Y.ISHIDA: Proceedings of Acta Scrypta Metallurgica Conference on Metal/Ceramic Bondings,Santa Barbara 1989.(1989)
Y.ISHIDA:Acta Scrypta Metallurgica 金属/陶瓷接合会议论文集,圣巴巴拉 1989 年。(1989)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Takeshi ASAI: Solid State Ionics. (1989)
Takeshi ASAI:固态离子学。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
S.SAKKA: Journal of Materials Science Letters.
S.SAKKA:材料科学快报杂志。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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