Amorphe SiC:H-Schichten aus Precursoren: Precursorsynthese, Schichtherstellung und -charakterisierung

来自前驱体的非晶 SiC:H 层:前驱体合成、层生产和表征

基本信息

项目摘要

Durch Wasserstoffeinbau stabilisierte amorphe SiC-Schichten (a-SiC:H) werden aufgrund ihrer interessanten optoelektronischen Eigenschaften in zunehmendem Maße in der Literatur beschrieben. Die Herstellung solcher Schichten geschieht bisher ausnahmslos über zeitaufwendige Abscheideprozesse aus der Gasphase. Hier soll ein innovativer Weg zur Schichtherstellung aus Precursorpolymeren und deren Pyrolyse erschlossen werden, der eine höhere Effektivität und gegebenenfalls auch ein anderes Eigenschaftsspektrum verspricht. Ziel ist die Synthese von Polymeren, die sich in reine SiC-Schichten mit Halbleiterqualitäten überführen lassen. Um die für die Pyrolyse vorteilhaften vernetzten Si-Strukturen in den Precursoren zu erhalten, sollen Si-Gerüste synthetisiert werden, die Vinylgruppen in den Seitenketten aufweisen. Die Reinheit der Produkte wird durch einen Polymeraufbau ohne Metallkondensation über heterogen katalysierte Disproportionierung von Chlordisilanen gewährleistet. Die resultierenden niedrigviskosen Polymere sollen mittels Spin-Coating als dünne Schichten auf unterschiedlichen Substraten abgeschieden und unter definierten Atmosphären soweit pyrolysiert werden, daß eine amorphe H-stabilisierte Netzwerkstruktur resultiert. Der Einfluß von Synthese- und Pyrolysebedingungen sowie vom Substrat auf Ordnungsgrad, Zusammensetzung und Eigenschaften der Schichten soll untersucht werden. Daher ist insbesondere vorgesehen, die im Forschungsverbund präparierten a-SiC:H-Schichten mit einer breiten Palette von Verfahren auf ihre halbleiterphysikalischen Eigenschaften hin zu untersuchen, um Korrelationen zu Präparationsparametern aufstellen zu können. Dabei wird besonderer Wert auf die Bestimmung der primären den amorphen Halbleiter charakterisierenden Größen gelegt. Realisiert werden soll dies durch temperaturabhängige Leitfähigkeit und Photoleitung (auch Hochfrequenzphotoleitung) in Verbindung mit Präzisionsmessungen optischer Absorption, später durch Hinzunahme von Thermokraftmessungen. Mit Elektronenspinresonanz in Verbindung mit Elektronen-Kern-Doppelresonanz wird die Konzentration von Si und C "dangling bonds" separat gemessen, was mit den elektrischen und optischen Parametern korreliert werden soll. Außerdem erhält man damit Aussagen über das mikroskopische atomare Gefüge der Schichten.
Dasserstoffeinbau稳定的非晶SiC-Schichten(a-SiC:H)韦尔登在文献中被广泛用于光电子特性研究。该方法的优点是在气相中进行超临界水处理。在这里,我们将通过聚合物前体和热解韦尔登的合成方法进行创新,从而获得一个有效的和更好的方法。Ziel is die Synthese von Polymeren,die sich in reine SiC-Schichten mit Halbleiterqualitäten überführen lassen. Um die für die Pyrolyse vorteiletten Si-Strukturen in den Precursoren zu erhalten,sollen Si-Gerüste synthesiert韦尔登,die Vinylgruppen in den Seitenketten aufweisen.产品的控制是通过一种聚合物制造的,该聚合物具有由氯二硅烷引起的不均匀分解的金属凝聚。旋涂法得到的聚合物溶液具有良好的热分解性,并在一定的气氛下进行热分解,从而得到无定形的H-稳定的网状结构。对合成和热解的影响可以从基质的有序性、稳定性和特征性等方面得到韦尔登。Daher is insbesondere vorgesehen,die im Forschungsverbund präparierten a-SiC:H-Schichten mit einer breiten scholar von Verfahren auf ihre halbleiterphysicalischen Eigenschaften hin zu untersuchen,um Correlationen zu Präparationsparametern aufstellen zu können.大北将被认为是最早的无定形Halbleiter特征的Größen gelegt。Realisiert韦尔登soll dies durch temperaturabhängige Leitfähigkeit und Photoleitung(auch Hochfrezphotoleitung)in Verbindung mit Präzisionsmessungen optischer Absorption,später durch Hinzunahme von Thermokraftmessungen.在电子自旋共振与电子核-多普勒共振的结合中,将Si和C“悬挂键”的浓度分开,这是通过电子和光学参数韦尔登解决的。因此,他决定将其作为Schichten的微型原子能装置。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Professor Dr. Gerhard Roewer (†)其他文献

Professor Dr. Gerhard Roewer (†)的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('Professor Dr. Gerhard Roewer (†)', 18)}}的其他基金

Synthese neuer Verbindungen mit hyperkoordiniertem Siliciumatom - Ausgewählte Möglichkeiten und nutzbare Konsequenzen des Koordinationszahlwechsels
具有超配位硅原子的新化合物的合成 - 配位数变化的选择可能性和有用后果
  • 批准号:
    5375721
  • 财政年份:
    2002
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Research Grants
Precursor based plasma synthesis of multi-component hard coatings for high temperature applications
基于前驱体的高温应用多组分硬质涂层的等离子体合成
  • 批准号:
    5285722
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Priority Programmes
Synthesis and characterization of heterosubstituted polysilanes
杂取代聚硅烷的合成与表征
  • 批准号:
    5161352
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Research Grants
Siliciumcarbid-Membranen aus Silicium-organischen Precursoren
由有机硅前驱体制成的碳化硅膜
  • 批准号:
    5390522
  • 财政年份:
    1997
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Priority Programmes
Untersuchungen zu Phasen im quaternären System Metall/Silicium/Halogen/Wasserstoff: Bildung, thermochemische Charakterisierung, Reaktivität, physikalische Eigenschaften
研究四元系统金属/硅/卤素/氢中的物相:形成、热化学表征、反应性、物理性质
  • 批准号:
    5377309
  • 财政年份:
    1997
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Research Grants
Synthese, Strukturaufklärung und Eigenschaften monomerer, oligomerer und polymerer Komplexe des hypervalenten Siliciums mit Azomethinliganden
高价硅与偶氮甲碱配体的单体、低聚和聚合配合物的合成、结构解析和性质
  • 批准号:
    5236246
  • 财政年份:
    1995
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Priority Programmes

相似国自然基金

SiC MOSFET瞬态开关建模与开关振荡抑制研究
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
核壳结构高熵MAX/SiC螺旋纳米纤维设计及多机制协同吸波机理
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
SiC MOSFET器件多时间尺度电热应力栅极主动控制研究
  • 批准号:
    JCZRQT202500104
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
SiC/g-C3N4 对生活废水中表面活性剂的降解与机理的研究
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
埋入式多芯片SiC功率模块集成封装技术
  • 批准号:
    2025C01048
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
Nano-M(On)-SiCNWs-SiC催化材料的制备及其协同催化制氢机理研究
  • 批准号:
    2025JJ70041
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
面向2.5维C/SiC复合材料薄壁内圆磨削的液氮内冷却有序化砂轮设计与加工基础研究
  • 批准号:
    2025JJ50322
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
纳米含能复合钎料钎焊连接SiC与Cu界面反应机理及性能调控研究
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
面向SiC功率器件的纳米铜互连材料烧结及失效行为研究
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
多能场辅助SiCf/SiC复合材料精密加工机理及调控方法研究
  • 批准号:
    2025JJ70033
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目

相似海外基金

SiC欠陥スピンの電気的高効率読出の確立に向けたスピン・光・電荷ダイナミクス解明
阐明自旋、光和电荷动力学,以建立 SiC 缺陷自旋的高效电读出
  • 批准号:
    23K22796
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
界面欠陥制御に基づく高効率・高信頼性SiC MOSFETの実現
基于界面缺陷控制的高效可靠SiC MOSFET的实现
  • 批准号:
    24KJ1553
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
耐熱性とプロセス温度の低温化を両立したSiCセラミックスのTLP接合技術の開発
开发兼具耐热性和低加工温度的SiC陶瓷TLP接合技术
  • 批准号:
    24K08069
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
SiC表面・界面で生じる固有な現象の正しい理解とそれに基づくMOS界面特性の制御
正确理解SiC表面和界面上发生的独特现象,并基于该理解控制MOS界面特性
  • 批准号:
    24H00308
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
熱酸化反応の精密制御による理想SiO2/SiC界面の実現
通过精确控制热氧化反应实现理想的SiO2/SiC界面
  • 批准号:
    24K01348
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
SiCインバータサージ絶縁の高度化:高繰り返しナノ秒パルス電圧下の部分放電の解明
SiC逆变器浪涌绝缘的进步:阐明高重复纳秒脉冲电压下的局部放电
  • 批准号:
    24K00874
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
CVD-SiC材料の高能率・超精密加工とその加工現象解明の研究
CVD-SiC材料高效超精密加工研究及加工现象阐明
  • 批准号:
    24K07262
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
SiC-MOSFET負荷短絡時の素子残留ダメージが信頼性特性へ及ぼす影響の研究
SiC-MOSFET负载短路时元件残余损伤对可靠性特性的影响研究
  • 批准号:
    23K20927
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
SiCパワーMOSFETの高速自己調整デジタルアクティブゲートドライバ開発
SiC功率MOSFET高速自调节数字有源栅极驱动器的开发
  • 批准号:
    23K26094
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
SiC MOS反転層における電子輸送機構の原子論と量子論に基づく解明
基于原子论和量子论阐明SiC MOS反型层电子传输机制
  • 批准号:
    24K17310
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    --
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了