课题基金 / 基金详情

Study on the formation of hydrogenated silicon films and silicon nano-structural materials obtained by electron-beam-induced-chemical vapor deposition at ultra low temperature

Study on the formation of hydrogenated silicon films and silicon nano-structural materials obtained by electron-beam-induced-chemical vapor deposition at ultra low temperature
超低温电子束诱导化学气相沉积氢化硅薄膜及硅纳米结构材料的研究
批准号：
18550014
负责人：
SATO Tetsuya
金额：
$2.51万
依托单位：
University of Yamanashi
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2006
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2006 至 2008
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-18550014/
关键词：
トンネル反応電子線誘起反応極低温アモルファスシリコン放射線化学水素原子低速電子飛行時間型質量分析計電子銃水素化アモルファスシリコンアモルファスカーボンシリコン窒化膜欠陥密度界面準位密度ナノ材料太陽電池微結晶シリコン

项目摘要

项目成果

SATO Tetsuya的其他基金

相关文献

中文摘要
翻译
低速電子線誘起反応と低温トンネル反応を利用して水素化アモルファスシリコン薄膜およびナノ構造材料を極低温で合成し、成長過程に関する基礎的知見を得た。モノシランやジシランを原料ガスに用いて40K~100Kの温度領域で製膜し、薄膜の水素含有量や光学定数(屈折率n, 消衰係数k)の温度依存性などを詳細に検討した。また、薄膜の表面分析および電気的特性評価を行った。
英文摘要
低速電子線誘起反応と低温トンネル反応を利用して水素化アモルファスシリコン薄膜およびナノ構造材料を極低温で合成し、成長過程に関する基礎的知見を得た。モノシランやジシランを原料ガスに用いて40K~100Kの温度領域で製膜し、薄膜の水素含有量や光学定数(屈折率n, 消衰係数k)の温度依存性などを詳細に検討した。また、薄膜の表面分析および電気的特性評価を行った。
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
低速電子誘起反応とトンネル反応を利用したシリコン半導体薄膜の極低温合成
利用慢电子诱导反应和隧道反应低温合成硅半导体薄膜
DOI： --
发表时间： 2006
期刊： 山梨大学機器分析センター年報 vol.5
影响因子： --
作者： [T. Sato, M. Mitsui, J. Yamanaka, K. Nakagawa, et.al, 佐藤哲也]
通讯作者： 佐藤哲也
Formation of Microcrystalline Silicon and SiNx Films by Electron-Beam- Induced-Chemical Vapor Deposition at Ultra Low Temperature
超低温电子束诱导化学气相沉积微晶硅和 SiNx 薄膜的形成
DOI： --
发表时间： 2006
期刊： Thin Solid Films 508
影响因子： --
作者： [T. Sato, M. Mitsui, J. Yamanaka, K. Nakagawa, et.al]
通讯作者： et.al
低速電子誘起反応と極低温トンネル反応により合成したSiNxの電気特性評価
慢电子诱导反应和低温隧道反应合成SiNx电学性能评价
DOI： --
发表时间： 2008
期刊：
影响因子： --
作者： [T.Sato, M.Mitsui, J.Yamanaka, K.Nakagawa, Y.Aoki, S.Sato, C.Miyata, 小林 憲明]
通讯作者： 小林 憲明
有機フィルム基板上へのSiNxおよびa-Si:Hの極低温形成
在有机薄膜基底上低温形成 SiNx 和 a-Si:H
DOI： --
发表时间： 2007
期刊：
影响因子： --
作者： [T.Sato, M.Mitsui, J.Yamanaka, K.Nakagawa, Y.Aoki, S.Sato, C.Miyata, 小林 憲明, 佐藤 哲也]
通讯作者： 佐藤 哲也
共 6 条
    Low temperature synthesis of fluororesin thin films by plasma excitation of fluorocarbon condensed solid thin films
    • 批准号：
      17K06816
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.91万
    • 财政年份：
      2017
    • 负责人：
      SATO Tetsuya
    • 依托单位：
      University of Yamanashi
    Development Study of High Mach Integrated Control of the Hypersonic Demonstration Vehicle Installing the Air-Breathing Engine, "HICICO"
    • 批准号：
      15H02323
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额：
      $28.04万
    • 财政年份：
      2015
    • 负责人：
      SATO Tetsuya
    • 依托单位：
      Waseda University
    Induction of magnetic function on two-dimensional metal thin film based on quantum well structure and its application
    • 批准号：
      15H01998
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额：
      $26.96万
    • 财政年份：
      2015
    • 负责人：
      SATO Tetsuya
    • 依托单位：
      Keio University
    Study on the ultra-low temperature synthesis of amorphous carbon thin films obtained by plasma excitation method of condensed gas.
    • 批准号：
      26390095
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $3.16万
    • 财政年份：
      2014
    • 负责人：
      SATO Tetsuya
    • 依托单位：
      University of Yamanashi