Study on Room Temperature Ferromagnetic Nitride Semiconductor Nanostructures and Nanospintronics Device Application

室温铁磁氮化物半导体纳米结构及纳米自旋电子器件应用研究

基本信息

  • 批准号:
    18360009
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.29万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2006
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2006 至 2008
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

(1) GaGdN/GaN超格子構造を成長し、キャリア誘起磁性による磁化の向上を観測した。(2) 室温強磁性を示すGaCrNナノロッド構造の成長を実現した。(3) GaGdN を低温成長することにより、Gd 濃度の増加とそれに伴う飽和磁化の大幅な増大を実現した。Si の同時ドーピングにより更なる飽和磁化の増大が可能なことを示した。(4) Alフラックスを減少させて成長することにより、ヘテロ界面が平坦でAlドロップレットのない良好なGaCrN/AlN多重量子ディスク(MQDisk)ナノロッド構造の成長に成功した。(5) GaCrN/AlN/GaCrN 三層構造ダイオードを作製し、77K においてトンネル磁気抵抗(TMR)効果を観測した。全半導体ベースのTMR デバイスでは最高の温度でのTMR 効果の観測である。(6) AlNの代わりにAlGaNに置換えたGaCrN/AlGaN-MQW構造とすることによっても平坦なヘテロ界面を持つ良好なMQW構造が成長可能なことが分かった。この知見に基づき、AlGaNGaCrN/AlGaN三層構造磁気トンネルデバイスを試作した。
(1) The GaGdN/GaN superlattice structure を grows <s:1>, キャリア induces magnetism による magnetization <s:1> moves upward を観 measures <s:1> た. (2) Room-temperature strong magnetism を indicates すGaCrNナノロッド structure <s:1> growth を occurrence of を た た (3) GaGdN を low temperature growth す る こ と に よ り, concentration of Gd の raised plus と そ れ に with う saturation magnetization の な sharply raised large を be presently し た. The simultaneous ド, ド, ピ, グによ, グによ and なる saturation magnetization <s:1> increase が may な, とを, とを indicate た た. (4) Al フ ラ ッ ク ス を reduce さ せ て growth す る こ と に よ り, ヘ テ ロ interface が flat で Al ド ロ ッ プ レ ッ ト の な い good な GaCrN/AlN multiple quantum デ ィ ス ク (MQDisk) ナ ノ ロ ッ ド tectonic の growth に success し た. (5) GaCrN/AlN/GaCrN three layers structure ダ イ オ ー ド を as し, 77 k に お い て ト ン ネ ル magnetic 気 resistance (TMR) working fruit を 観 measuring し た. All-semiconductor ベ, ス, <s:1> TMR デバ, スで, <s:1> maximum <s:1> temperature で, <s:1> TMR effect <s:1> 観 measurement である. (6) AlN の generation わ り に AlGaN に replacement え た GaCrN/AlGaN - MQW structure と す る こ と に よ っ て も flat な ヘ テ ロ interface を hold good つ な MQW structure が growth may な こ と が points か っ た. The knowledge of に basis づ た, AlGaNGaCrN/AlGaN three-layer structure magnetic atmosphere ト ネ デバ デバ スを スを attempts to make た.

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
薄膜ハンドブック
薄膜手册
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    木股 雅章;浅地 伸洋;太田 喬;高畑 晶弘;島田 佳玄;吉岡 文雄;吉田 昌史;Masafumi Kimata;Masafumi kimata;木股雅章;木股 雅章;Masafumi Kimata;Masafumi Kimata;木股雅章;木股雅章;木股雅章;Masafumi Kimata;木股雅章
  • 通讯作者:
    木股雅章
Third magnetic phase of GaGdN detected by SX-MCD
SX-MCD 检测到 GaGdN 的第三磁相
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Takahashi;Y. Hiromura;S. Emura;T. Nakamura Y. K. Zhou;S. Hasegawa and H Asahi
  • 通讯作者:
    S. Hasegawa and H Asahi
Si基板上GaCrNナノロッドの作製とその評価(2)
Si 衬底上 GaCrN 纳米棒的制备与评价 (2)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. K. Zhou;S. Kimura;S. Emura;S. Hasegawa;H. Asahi;亀岡恒志;丹保浩行
  • 通讯作者:
    丹保浩行
Annealing effect in GaDyN on optical and magnetic properties
GaDyN 的退火效应对光学和磁性能的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y.K.Zhou;M.Takahashi;S.Kimura;S.Emura;S.Hasegawa;H.Asahi
  • 通讯作者:
    H.Asahi
Growth and characterization of InCrN and(In, Ga, Cr)N
InCrN 和(In, Ga, Cr)N 的生长和表征
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S. Kimura;S. Emura;K. Tokuda;Y. Hiromura;S. Hayakawa;Y.K. Zhou;S. Hasegawa and H. Asahi
  • 通讯作者:
    S. Hasegawa and H. Asahi
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

ASAHI Hajime其他文献

ASAHI Hajime的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('ASAHI Hajime', 18)}}的其他基金

Study on the Physical Properties of Ferromagnetic Nitride Semiconductor Quantum Nanostructures and their Device Application
铁磁氮化物半导体量子纳米结构物理性质及其器件应用研究
  • 批准号:
    21360010
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Study on Polycrystalline Nitride Semiconductors and Applications to Electric Field Emission Electron Sources and Visible Wavelength Region Fluorescence Substances
多晶氮化物半导体及其在电场发射电子源和可见波长区荧光物质中的应用研究
  • 批准号:
    15360012
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Study on Temperature-independent Lasing Wavelength Semiconductor Laser Diodes by Using T1-containing III-V Semiconductors
采用含T1 III-V族半导体的温度无关激光波长半导体激光二极管的研究
  • 批准号:
    11555004
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Study on Polycrystalline Photonics, by Using III-V Nitrides Grown on Amorphous and Polycrystalline Substrates
利用非晶和多晶衬底上生长的 III-V 族氮化物研究多晶光子学
  • 批准号:
    11450015
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Crystal Growth of Thallium Containing III-V Semimetal-Semiconductor Alloys and Search of New Physical Properties
含铊III-V族半金属半导体合金的晶体生长及新物理性能的探索
  • 批准号:
    09650015
  • 财政年份:
    1997
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

相似海外基金

Non contact measurement of Semiconductor Properties
半导体特性的非接触式测量
  • 批准号:
    10074644
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Grant for R&D
Validation of predicted solution processed organic semiconductor properties
验证预测的溶液加工有机半导体特性
  • 批准号:
    DP220102124
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Discovery Projects
電気分極由来の傾斜したバンド構造により発現する強誘電体の半導体物性
铁电体的半导体特性通过电极化产生的倾斜能带结构表现出来
  • 批准号:
    20KK0330
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research (A))
Development of novel tetrabenzoporphyrins with excellent semiconductor properties
具有优异半导体性能的新型四苯并卟啉的开发
  • 批准号:
    16K05892
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Relationship between order-disorder transition and semiconductor properties in chalcopyrite phase ZnSnP_2
黄铜矿相ZnSnP_2有序-无序转变与半导体性能的关系
  • 批准号:
    21760599
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
蛍光EXAFS法による半導体中の極希薄原子周辺局所構造と半導体物性の解析
利用荧光 EXAFS 方法分析半导体中超稀原子周围的局域结构和半导体物理性质
  • 批准号:
    12750259
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
炭化ホウ素のCVD合成と熱電半導体物性
碳化硼的CVD合成及热电半导体性能
  • 批准号:
    01550589
  • 财政年份:
    1989
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
黒リン単結晶の半導体物性の実験的・理論的研究
黑磷单晶半导体性能的实验与理论研究
  • 批准号:
    57460018
  • 财政年份:
    1982
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
弾性表面波の半導体物性研究への応用
声表面波在半导体物性研究中的应用
  • 批准号:
    X00090----255007
  • 财政年份:
    1977
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
Semiconductor Properties of Minerals
矿物的半导体特性
  • 批准号:
    7602721
  • 财政年份:
    1976
  • 资助金额:
    $ 11.29万
  • 项目类别:
    Standard Grant
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了