High-performance MEMS devices realized by three-dimensional photolithography

三维光刻实现的高性能MEMS器件

• 批准号: 18681023
• 负责人: SASAKI Minoru
• 金额: $ 16.39万
• 依托单位: Toyota Technological Institute (2007-2008)Tohoku University (2006)
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
• 财政年份: 2006
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2006 至 2008
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-18681023/
• 关键词: マイクロファブリケーション; マイクロマシン; デバイス設計・製造プロセス; 3次元フォトリソグラフィ; 3次元デバイス; 垂直壁; 3次元実装; 流体解析; 先端機能デバイス

3次元フォトリソグラフィの応用可能性をニーズのあるデバイスの形で示す試みは、ニーズを持つ外部研究グループと一緒に行った。関西大学の青柳教授らとの、自立カンチレバーと組み合わされたMOSFET容量センサ、香川大学の大平教授らとの、ICパッケージ側壁への配線パターン形成である。露光技術などの推敲と、成膜の基礎研究(評価法、気流解析)も平行して進めた。応用展開と、プロセス技術全般の推敲、学術的基礎の蓄積が進展した。

3. The possibility of using the software is discussed. The software is designed to be used for external research. Professor Aoyanagi of Kansai University, Professor Ohira of Kagawa University, Professor Ohira of Kansai University, Professor Ohira, Professor Ohira of Kansai University, Professor Ohira University, Professor Ohira, Professor Ohira University of Kansai University, Professor Ohira University of Kansai University, Professor Ohira University, Professor Ohira University, Professor Ohi Basic research on exposure technology, film formation (evaluation method, gas flow analysis) and parallel development. The development of the application, the comprehensive elaboration of the technology and the accumulation of the academic foundation have made progress.

项目成果

Effect of Angled Exposure Light for Three-Dimensional Lithography

成角度曝光光对三维光刻的影响

• 发表时间: 2006
• 期刊: Proceedings of the 23rd Sensor Symposium
• 作者: 西 義則;山内 進;小林祐次;Vijay Kumar Singh
• 通讯作者: Vijay Kumar Singh

スプレーコーティングしたレジスト膜の評価方法の検証

喷涂抗蚀膜评价方法的验证

• 发表时间: 2008
• 作者: T. Tokuda;et.al;佐々木実
• 通讯作者: 佐々木実

露光方法及び露光装置

曝光方法及曝光装置

• 发表时间: 2006

Fabrication of MOSFET Capacitive Sensor using Spray Coating Method

采用喷涂法制造 MOSFET 电容式传感器

• 发表时间: 2007
• 期刊: 電気学会論文誌E Vol.127-E, No.3
• 作者: Seiji Aoyagi;Yuichi Matsui;Kenji Makihira;Hiroshi Tokunaga;Minoru Sasaki;Kazuhiro Hane
• 通讯作者: Kazuhiro Hane

Conductive pattern forming method on vertical wall using spray coating and angled exposure technologies

利用喷涂和成角度曝光技术在垂直壁上形成导电图案的方法

• 发表时间: 2008
• 作者: Hiroki Morii;Fumikazu Oohira;Minoru Sasaki;Toshihiko Ochi;Asumi Yuzuriha;Katsuhito Wani
• 通讯作者: Katsuhito Wani