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Application of Monolithic Porous Layer on SiWafer -Toward Cell Manipulation for Biotechnology-

Application of Monolithic Porous Layer on SiWafer -Toward Cell Manipulation for Biotechnology-
整体多孔层在 SiWafer 上的应用 -面向生物技术的细胞操作 -
批准号:
19686014
负责人:
早瀬 仁則
金额:
$16.97万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份:
2007
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2007 至 2009

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
在硅片上制作了穿透芯片多孔区阵列,并通过对穿透芯片多孔区的真空抽吸演示了蜂窝状阵列。预计多孔区域很容易被培养介质中的某些物质堵塞。然后测量了通过多孔区的压力降,发现用新鲜过滤的培养介质可以获得足够的吸液量。对细胞进行了固定化实验,发现在施加强吸力的情况下,固定化后的细胞会发生碎裂。
英文摘要
Through-chip porous area array was made on a Si chip and cellular array was demonstrated by vacuum suction on the through-chip porous areas. It was expected that the porous area was easily blocked by some substances contained in a cultivation medium. Then the pressure drop through the porous area was measured and it was found that enough suctional fluidic volume can be obtained with a fresh filtrated cultivation medium. Cell immobilization was demonstrated and it was found that cell fragmentation could be induced after the immobilization by applying strong suction.
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专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
貫通多孔質シリコン層を用いた微小物体吸引デバイスの開発
使用穿透性多孔硅层开发微型物体吸附装置
DOI: --
发表时间: 2008
期刊: 精密工学会誌 74(10)
影响因子: --
作者: [早瀬仁則, 加藤厚子, 内海敦]
通讯作者: 内海敦
細胞分離・操作技術の最前線
最前沿的细胞分离与操作技术
DOI: --
发表时间: 2008
期刊:
影响因子: --
作者: [福田敏男, 新井史人(監修)]
通讯作者: 新井史人(監修)
シリコン基板上への貫通した多孔質貴金属層の形成
在硅基底上形成穿透性多孔贵金属层
DOI: --
发表时间: 2009
期刊:
影响因子: --
作者: [Masahiko Shibahara, Kiyoshi Takeuchi, 松坂拓]
通讯作者: 松坂拓
Formation of Through-chip Porous Metal Layer on Si Substrates
在硅衬底上形成贯穿芯片的多孔金属层
DOI: --
发表时间: 2009
期刊:
影响因子: --
作者: [Masahiko Shibahara, Kiyoshi Takeuchi, Taku Matsuzaka]
通讯作者: Taku Matsuzaka
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    Effect of cell surface roughness on WBC capture using antibody
    • 批准号:
      22K04900
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.66万
    • 财政年份:
      2022
    • 负责人:
      早瀬 仁則
    • 依托单位:
    多孔質シリコン触媒支持層改良によるシリコン電極薄型燃料電池の高性能化
    • 批准号:
      05F05338
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $1.54万
    • 财政年份:
      2005
    • 负责人:
      早瀬 仁則
    • 依托单位:
    銅めっきスーパーフィリングの機構解明とその高度化
    • 批准号:
      15760537
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
    • 资助金额:
      $2.18万
    • 财政年份:
      2003
    • 负责人:
      早瀬 仁則
    • 依托单位:
    溶液内電位勾配計測によるイオンの拡散パラメータ検出
    • 批准号:
      12750635
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
    • 资助金额:
      $1.22万
    • 财政年份:
      2000
    • 负责人:
      早瀬 仁則
    • 依托单位:
    海外基金