课题基金 / 基金详情

シリコン結晶異方性エッチングを用いたMEMSの先進的設計とプロセス技術開発

シリコン結晶異方性エッチングを用いたMEMSの先進的設計とプロセス技術開発
利用硅晶体各向异性蚀刻的MEMS先进设计和工艺技术开发
批准号:
08F08053
负责人:
佐藤 一雄
金额:
$1.02万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2008
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2008 至 2009

项目摘要

项目成果

佐藤 一雄的其他基金

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
シリコンをTetra Methyl Ammonium Hydroxide (TMAH)水溶液でエッチングするさいに添加された微量の界面活性剤が,エッチング特性,特に,エッチングの異方性を変えてしまう現象について研究した.H19年度までに当該研究室では,界面活性剤添加によるエッチレートの結晶方位依存性の変化を把握してきた.本テーマの第1年目である平成20年度の研究では,界面活性剤(Triton X100)がシリコンの特定の結晶方位に吸着してエッチングを妨げる結果,エッチング異方性が激変するという事実を実験的に明らかにした.これに続く平成21年度は,結晶面方位によって界面活性剤が選択的に吸着する現象を,エリプソメトリ法によって定量的に評価し,上記のエッチング異方性変化のメカニズムを確認した.これと並行してMEMS加工技術への応用を研究し,TMAH水溶液によるウェットプロセスだけで多様な3次元構造体を形成する新しいプロセスを提案・実証した.TMAH水溶液に界面活性剤を加えた場合と,加えない場合で大きく異なるエッチング特性を使い分け,それぞれ異なるマスクパターンにしたがって,異なる特性のエッチングを実施することで,従来,加工できなかった形状の微細構造を実現した,異なる領域を分割して保護するマスキング法として,2種類のマスク材料(シリコン窒化膜とシリコン酸化膜)を使い分けたLOCOS (Local Oxidization of Silicon)プロセスを導入し,これと特性の違うエッチングを組み合わせたプロセスを特許出願した.以上の平成21年度の成果は,学術会議論文7件,学術雑誌論文8件,図書1件,特許出願1件,として公表済み,あるいは掲載決定している.
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Fabrication Methods Based on Wet Bulk Micromachining for the Realization of Advanced MEMS Structures
基于湿法体微机械加工的制造方法,用于实现先进的 MEMS 结构
DOI: --
发表时间: 2009
期刊:
影响因子: --
作者: [Prem Pal, K. Sato]
通讯作者: K. Sato
DOI: 10.1007/s00542-009-0956-5
发表时间: 2010-07-01
期刊: MICROSYSTEM TECHNOLOGIES-MICRO-AND NANOSYSTEMS-INFORMATION STORAGE AND PROCESSING SYSTEMS
影响因子: 2.1
作者: [Pal, Prem, Sato, Kazuo]
通讯作者: Sato, Kazuo
Extension of 3D Shapes of MEMS Structures Realized by Wet Etching
通过湿法蚀刻实现 MEMS 结构 3D 形状的扩展
DOI: --
发表时间: 2009
期刊:
影响因子: --
作者: [Prem Pal, K. Sato]
通讯作者: K. Sato
シリコン微細構造体の製造方法
硅微结构的制造方法
DOI: --
发表时间: 2010
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
24
    エネルギー伝送のためのマイクロストリップアンテナの研究-----マイクロマシン及びガン治療への応用
    • 批准号:
      01F00045
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $1.54万
    • 财政年份:
      2001
    • 负责人:
      佐藤 一雄
    • 依托单位:
    内耳破壊後における中枢聴覚系でのシナプス伝達可塑性についての組織化学的研究
    • 批准号:
      11771024
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
    • 资助金额:
      $1.41万
    • 财政年份:
      1999
    • 负责人:
      佐藤 一雄
    • 依托单位:
    シリコンマイクロマシニングプロセスの原子レベルシミュレーション
    • 批准号:
      98F00382
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $1.09万
    • 财政年份:
      1999
    • 负责人:
      佐藤 一雄
    • 依托单位:
    ストレス刺激下における神経伝達物質を中心とした聴覚伝導系の適応に関する研究
    • 批准号:
      09771394
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
    • 资助金额:
      $1.22万
    • 财政年份:
      1997
    • 负责人:
      佐藤 一雄
    • 依托单位:
    国内基金
    海外基金
    电子级TMAH纯化制备用UiO-66基阳离子选择性分离膜的精准构筑
    • 批准号:
      22378067
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      50万元
    • 批准年份:
      2023
    • 负责人:
      林小城
    • 依托单位:
    EfOM与四甲基铵根离子非共价强相互作用强化纳滤去除微电子废水中TMAH机制及调控研究
    • 批准号:
      52100103
    • 项目类别:
      青年科学基金项目(C类)
    • 资助金额:
      30.0万元
    • 批准年份:
      2021
    • 负责人:
      李雪松
    • 依托单位: