Herstellung, Mikrostruktur und magnetische Eigenschaften von hartmagnetischen L10 Schichten auf mittels IBAD biaxial texturierten MgO Buffer-Schichten

obwhl die Speicherdichte von Computerfestplatten noch ungehinderderexponentiell anwächst, wind erwaret, dß mit den bisherigen Materialien in wenigen Jahren die Grenze ericht wind, unterhalb der ein inzelnes Speicherbit zu klein ist, um thermisch stabil ine magnetisiungsrichtung beizubehalten。超顺磁性材料的各向异性限制，超顺磁性材料的各向异性限制，超顺磁性材料的各向异性限制，超顺磁性材料的各向异性限制，超顺磁性材料的各向异性限制，超顺磁性材料的各向异性限制，超顺磁性材料的各向异性限制，超顺磁性材料的微观结构限制。研究了双轴织构MgO缓冲材料的制备方法。Die gew<s:1> nschte Texturierung des Buffers wind während des Wachstums durch einen zusätzlichen, schräg einfallenden Ionenstrahl (IBAD) erreicht。所以können auf einem technischen基材双轴织质，d<s:1> nne和glatte MgO Buffer-Schichten mit kleinen Korngrößen， aber ohne Großwinkelkorngrenzen hergestellt werden。数据来源：allgemeinen eine aufwachsende Schicht die oriententierung and microstruckturr under unterage reduziert， soll hierer die texture und Korngröße der hartmagnetischen Schicht controlliert werden and deren influß auf die magnetischen Eigenschaften der FePt and CoPt Schichten untersucht werden。

Obwohl die Speicherdichte von Computerfestplatten noch ungehindert exponentiell anwächst, wird erwartet, daß mit den bisherigen Materialien in wenigen Jahren die Grenze erreicht wird, unterhalb der ein einzelnes Speicherbit zu klein ist, um thermisch stabil eine Magnetisierungsrichtung beizubehalten. Um dies superparamagnetische Limit weiter hinaus zu schieben, sind hartmagnetische Materialien mit einer hohen Anisotropie, wie zum Beispiel die geordneten L1o Phasen FePt und CoPt, mit einer optimierten Mikrostruktur notwendig. In diesem Projekt sollen epitaktische FePt und CoPt Schichten auf einem biaxial texturierten MgO Buffer hergestellt werden. Die gewünschte Texturierung des Buffers wird während des Wachstums durch einen zusätzlichen, schräg einfallenden Ionenstrahl (IBAD) erreicht. So können auf einem technischen Substrat biaxial texturierte, dünne und glatte MgO Buffer-Schichten mit kleinen Korngrößen, aber ohne Großwinkelkorngrenzen hergestellt werden. Da im allgemeinen eine aufwachsende Schicht die Orientierung und Mikrostruktur der Unterlage reproduziert, soll hierüber die Textur und Korngröße der hartmagnetischen Schicht kontrolliert werden und deren Einfluß auf die magnetischen Eigenschaften der FePt und CoPt Schichten untersucht werden.