Molekularstrahlepitaxie von III-V Nitriden: P-Dotierung kubischer AlyGa1-yN Epitaxieschichten und AlyGa1-yN/GaN Übergitter zur Herstellung optoelektronischer Bauelementstrukturen
Molekularstrahlepitaxie von III-V Nitriden: P-Dotierung kubischer AlyGa1-yN Epitaxieschichten und AlyGa1-yN/GaN Übergitter zur Herstellung optoelektronischer Bauelementstrukturen
批准号:
5372058
负责人:
Professor Dr. Donat Josef As
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Priority Programmes
财政年份:
1997
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
1996-12-31 至 2003-12-31
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英文摘要
Die p- und n-Dotierung von kubischen Gruppe III-Nitriden, die epitaktisch mittels MBE herstellt werden, soll auf die ternären Verbindungen AlxGa1-xN und InyGa1-yN erweitert und deren physikalische und strukturelle Eigenschaften untersucht werden. Als Dotierstoffe sollen die Elemente Si, Mg und C verwendet werden. Ziel ist die Herstellung von p- und n-leitenden kubischen (Al,Ga,In)-N Schichten mit möglichst hoher Dotierkonzentration. Dazu soll mit massenspektrometrischen, optischen und elektrischen Methoden der Einbau und die Aktivierung dieser Dotierstoffe in der kubischen Phase studiert und die elektrischen und optischen Eigenschaften mit Hall-Effekt- und Photolumineszenzmessungen untersucht werden. Da Mg bei hohen Konzentrationen zu Kompensationseffekten neigt und in der ternären Verbindung AlxGa1-xN die Akzeptor- und Donatorbindungsenergie noch höher erwartet werden, soll als alternativer Akzeptor C eingesetzt werden. Der Einbau der Dotierstoffe Si, Mg, und C, der Legierelemente Al,Ga und In sowie der Einfluß von Restverunreinigungen von As, O, und H sollen in-situ mit massenspektrometrischen Methoden genau studiert werden. Aufgrund des hohen Hintergrunddrucks von 10-5 mbar bei der Herstellung - hervorgerufen durch die N-Quelle, konnten bisher Flußschwankungen der Dotier- oder Legierungselemente weder gemessen noch während des Wachstumsprozesses korrigiert werden. Durch eine rückseitige Beschichtung der Substrate mit Ti bzw. Mo soll eine Verbesserung der Temperaturstabilität die Herstellung dicker c-GaN-Schichten ermöglichen. Zum Schluß sollen aus den kubischen Gruppe IIINitriden p-n-Übergänge und Heteroübergänge gefertigt und deren Diodenverhalten untersucht werden. Die Optimierung der elektrischen Eigenschaften bildet eine wesentliche Voraussetzung für den Einsatz von kubischen III-Nitriden zur Herstellung von blau emittierenden Laserdioden.
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项目类别:Research Grants
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资助金额:$0.0万
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财政年份:2007
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负责人:Professor Dr. Donat Josef As
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依托单位:
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