Rekombinations- und Transportmechanismen in Bufferschichten sowie Beweglichkeiten in Ladungsträgerplasmen

缓冲层中的复合和传输机制以及载流子等离子体中的迁移率

• 批准号: 5377449
• 负责人: Professor Dr. Dieter Hans Silber
• 金额: --
• 依托单位: Institut für Elektrische Antriebe, Leistungselektronik und Bauelemente (IALB)
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Priority Programmes
• 财政年份: 1997
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1996-12-31 至 2004-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5377449?language=en
• 关键词: Rekombinations; und; Transportmechanismen; Bufferschichten; sowie

Aus Untersuchungen zu Trägerlebensdauern werden Tendenzen für Scharfetter-Relationen hergeleitet. Aus den vorhandenen Ergebnissen zur Minoritätsträger-Diffusionskonstanten und diesen Ergebnissen werden die Konsequenzen zur Funktion von BufferSchichten durch Simulation ermittelt. Durch Untersuchungen an optisch hoch angeregten vertikalen Strukturen vom n--n+-p-Typ wird die ambipolare Diffusionskonstante aus Phasenmessungen bestimmt. Die Beweglichkeit von Ladungsträgern im ElektronLoch-Plasma wird aus Testelementen auf Silicon-on-Insulator Material bestimmt. Ziel ist, eine genauere Bestimmung der ambipolaren Diffusionskonstanten und, wenn möglich, der Parameter in Matrix-Transportgleichungen bei unterschiedlichen Temperaturen.

Aus Untersuchungen zu Trägerlebensdauern韦尔登Tendenzen für Scharfetter-Scharfetter hergeleitet.通过仿真验证了对缓冲区功能的影响，从而获得了最小扩散系数和韦尔登系数。因此，本文提出了一种适用于n+ p型垂直结构的双极扩散光学器件。电子等离子体中的激光束的性能将通过对绝缘体上硅材料的测试来确定。这是一种一般的双极性扩散常数的估计，如果更精确的话，则是在非恒定温度下的矩阵输运中的参数。