In-situ micro-structure fabrication of semiconductor device using maskless selective growth with FIB

利用 FIB 无掩模选择性生长原位微结构制造半导体器件

基本信息

  • 批准号:
    21560327
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.16万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2009
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2009 至 2011
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

The maskless selective epitaxy(MLSE) of III-V semiconductor compounds could become an important technique in the preparation of complex integrated device structures such as optoelectronic integrated circuits(OEICs). Focused ion beam(FIB) technology is useful for semiconductor maskless processes such as doping, ion beam assisted etching and deposition in high vacuum. Recently, we investigated on Sn high doped-GaAs, and we successfully fabricated MLSE growth layers of n-and p-GaAs. Using the result, we attempted in fabricating selective p-n junctions and succeeded in-situ pn junction device formation.
III-V族半导体化合物的无掩模选择性外延(MLSE)可以成为制备复杂集成器件结构(例如光电集成电路(OEIC))的重要技术。聚焦离子束(FIB)技术可用于半导体无掩模工艺,例如掺杂、离子束辅助蚀刻和高真空中的沉积。最近,我们研究了Sn高掺杂GaAs,并成功地制备了n型和p型GaAs的MLSE生长层。利用此结果,我们尝试制作选择性p-n结,并成功地在原位形成pn结器件。

项目成果

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专利数量(0)
Maskless selective growth and doping of n-GaAs using a low energy Sn-Ga focused ionbeam
使用低能 Sn-Ga 聚焦离子束进行 n-GaAs 无掩模选择性生长和掺杂
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Suzuki;K. Nobuhara;H. Takeda;M. Mokhtar and K. Pak
  • 通讯作者:
    M. Mokhtar and K. Pak
Study of maskless selective growth and evaluation of GaAs using a low energy Sn-Ga focused ion beam
使用低能 Sn-Ga 聚焦离子束进行 GaAs 无掩模选择性生长和评估的研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Mokhtar;M. Ishikawa;M. Hisada and K. Pak
  • 通讯作者:
    M. Hisada and K. Pak
A study of in-situ doping on maskless selective growth of GaAs using a low energy Sn-Ga focused ion beam
低能Sn-Ga聚焦离子束原位掺杂无掩模选择性生长GaAs的研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H.Takeda;M.Mokhtar;M.Ishikawa;K.Pak
  • 通讯作者:
    K.Pak
Maskless selective growth and doping of n-GaAs using a low energy Sn-Ga focused ion beam
使用低能 Sn-Ga 聚焦离子束进行 n-GaAs 无掩模选择性生长和掺杂
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Suzuki;K. Nobuhara;H. Takeda;M. Mokhtar;K. Pak
  • 通讯作者:
    K. Pak
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    $ 3.16万
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