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Application of chemical lift-off process to the fabrication of vertical ultra-violet LEDs

Application of chemical lift-off process to the fabrication of vertical ultra-violet LEDs
化学剥离工艺在垂直紫外LED制造中的应用
批准号:
21360001
负责人:
YAO Takafumi
金额:
$11.81万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2009
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2009 至 2011

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
近来,蓝色LED和白色LED已经进入商业市场,并广泛应用于我们的日常生活中。为了将LED技术应用于普通照明,对发射紫外光的高亮度LED的需求很高。为此,我们提出了应用化学剥离(CLO)技术来分离蓝宝石衬底后生长的紫外LED结构来制造垂直的LED结构,我们已经展示了385 nm波段的高亮度紫外LED的制作通过CLO技术。通过调节InGaN/GaN量子阱有源层中In的组分,可以实现发光波长的调谐。通过采用合适的AlGaN包层结构,大大提高了发射强度。这些成果可应用于深紫外发光二极管的制作。
英文摘要
Recently, blue LEDs and white LEDs have been already in the commercial market and are widely used in our daily life. In order to apply the LED technology to general lighting, high-brightness LEDs emitting uv light are highly demanded. To this end, we propose to apply the chemical lift-off (CLO)technique to detach sapphire substrates after growing uv LED structures to fabricate vertical LED structures.We have demonstrated the fabrication of 385-nm band high-brightness uv LEDs by means of CLO technique. The emitting wavelength can be tuned by adjusting the composition of In in the active InGaN/GaN QW layers. The emission intensity has been greatly improved by adapting proper AlGaN cladding structures. These achievements can be applied to the fabrication of deep uv LEDs.
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会议论文
Suppression of composition modulation in In-rich InxGa1-xN layer with high In content (x similar to 0.67)
高 In 含量的富 InxGa1-xN 层中成分调制的抑制(x 类似于 0.67)
DOI: 10.1002/pssa.201127307
发表时间: 2011
期刊: PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE
影响因子: 2
作者: [Jeong, M; Lee, HS; Han, SK; Shin, EJ; Hong, SK; Lee, JY; Song, JH; Yao, T]
通讯作者: T
X-ray photoelectron spectroscopy study on the CrN surface grown on sapphire substrate to control the polarity of ZnO by plasma-assisted molecular beam epitaxy
等离子体辅助分子束外延生长在蓝宝石衬底上的 CrN 表面控制 ZnO 极性的 X 射线光电子能谱研究
DOI: --
发表时间: 2009
期刊: Applied Surface Science
影响因子: 6.7
作者: [Chang JH, Jung MN, Park JS, Park SH, Im IH, Lee HJ, Ha JS, Fujii K, Hanada T, Yao T, Murakami Y, Ohtsu N, Kil GS]
通讯作者: Kil GS
Misoriented grains with a preferential orientation in a-plane oriented GaN layers
a 面取向 GaN 层中具有优先取向的错误取向晶粒
DOI: --
发表时间: 2011
期刊: JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH
影响因子: 1.8
作者: [Tokumoto, Y ; Lee, HJ ; Ohno, Y ; Yao, T ; Yonenaga, I]
通讯作者: I
Hydride vapor phase epitaxy of GaN on the vicinal c-sapphire with a CrN interlayer
具有 CrN 中间层的邻位 c 蓝宝石上的 GaN 氢化物气相外延
DOI: --
发表时间: 2009
期刊: Journal of Crystal Growth
影响因子: 1.8
作者: [Lee HJ, Ha JS, Lee HJ, Lee SW, Lee SH, Goto H, Hong SK, Cho MW, Yao T, Fujito K, Shimoyama K, Namita H, Nagao S]
通讯作者: Nagao S
共 14 条
    Construction of wide gap semiconductor nano-Quantum Dots
    • 批准号:
      10305001
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A).
    • 资助金额:
      $24.64万
    • 财政年份:
      1998
    • 负责人:
      YAO Takafumi
    • 依托单位:
    Development of nano-scale characterization technology for semicondutors and devices with scanning capacitance microscope
    • 批准号:
      09555093
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $8.58万
    • 财政年份:
      1997
    • 负责人:
      YAO Takafumi
    • 依托单位:
    Development of atomic-scale materials processing utilizing electron-beam induced selective chemical reaction
    国内基金
    海外基金
    基于非平衡态紫外光辅助的高铝组分AlGaN掺杂及远紫外LED关键技术研究
    AlGaN/β-Ga₂O₃异质结外延及其在深紫外LED光提取中的应用研究
    • 批准号:
      62504199
    • 项目类别:
      青年科学基金项目(C类)
    • 资助金额:
      30.00万元
    • 批准年份:
      2025
    • 负责人:
      黄亚飞
    • 依托单位:
    基于第三代半导体氮化镓的深紫外LED医院环境消毒技术研发及多中心消毒效果研究
    • 批准号:
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2024
    • 负责人:
      茅一萍
    • 依托单位:
    基于猕猴桃保鲜的智能紫外 LED 光催化降解乙烯机理研 究
    • 批准号:
      2024JJ6248
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2024
    • 负责人:
      季邦
    • 依托单位: