Fundamental study on nonpolar AlInN alloys for polarized UV light emitting devices
Fundamental study on nonpolar AlInN alloys for polarized UV light emitting devices
批准号:
21760227
负责人:
ONUMA Takeyoshi
金额:
$2.83万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2009
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2009 至 2010
中文摘要
为了开发非极性Alinn合金作为偏振紫外光发射体的潜在能力,采用金属有机气相外延方法生长了m平面Alinn薄膜。通过激子跃迁能量和振子强度的理论计算,分析了各向异性应力作用下薄膜近带边发射的偏振特性。此外,对GaN表面载流子复合过程的研究表明,极化感应电场影响GaN的表面复合。
英文摘要
In order to develop the potential ability of nonpolar AlInN alloys for polarized UV light emitters, m-plane AlInN films were grown by metal organic vapor phase epitaxy. Polarization characteristics of the near-band-edge emission in the films suffering from anisotropic stresses were analyzed by theoretical calculation for energies and oscillator strengths of the exciton transitions. Also, studies on the carrier recombination processes at the GaN surfaces indicated the polarization-induced electric field affects the surface recombination in GaN.
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会议论文
Surface recombination mechanism in hexagonal GaN crystals
六方氮化镓晶体的表面复合机制
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[N.Sakai, T.Onuma, T.Okuhata, A.A.Yamaguchi T.Honda]
通讯作者:
A.A.Yamaguchi T.Honda
自立GaN基板へのm面Al_<1-x>In_xN薄膜のMOVPE成長
自支撑 GaN 衬底上 m 面 Al_<1-x>In_xN 薄膜的 MOVPE 生长
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[秩父重英, 羽豆耕治, 尾沼猛儀]
通讯作者:
尾沼猛儀
Fundamental study on surface recombination process and its effects on emission efficiency in nitride semiconductors
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批准号:23760021
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.91万
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财政年份:2011
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负责人:ONUMA Takeyoshi
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依托单位:
国内基金
海外基金
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