Elucidation of Ionization Dynamics of Polymers for Nanofabrication by Using Quantum Beam

使用量子束阐明纳米加工聚合物的电离动力学

• 批准号: 22760669
• 负责人: OKAMOTO Kazumasa
• 金额: $ 2.66万
• 依托单位: Hokkaido University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2010
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2010 至 2011
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22760669/
• 关键词: 放射線; X線; 粒子線; 半導体超微細化; リソグラフィ; レジスト; 自由電子レーザー; 極端紫外光; パルスラジオリシス; ポリヒドロキシスチレン; 電子線; ポリスチレン

The microscopic charge dynamics in resist materials was studied by spectroscopy using quantum beam(extreme-ultraviolet free-electron laser(EUVFEL) and electron beam) as excitation source. It was suggested that the quantum efficiency of the acid yield in polymer films increases with decreasing the dose rate of the EUVFEL light. The charge dynamics in poly(styrene-acrylate) copolymers and poly(4-hydroxystyrene) was also studied by using pulse radiolysis.

使用量子束（Extrem-ultraviolet自由电子激光（EUVFEL）和电子束）作为激发源，通过光谱进行了抗药性材料中的显微电荷动力学。有人提出，聚合物膜中酸产量的量子效率随着euvfel光的剂量速率的降低而增加。还通过使用脉冲辐射溶解研究了聚（苯乙烯 - 丙烯酸酯）共聚物和聚（4-羟基苯乙烯）的电荷动力学。

项目成果

Charge dynamics in resist polymers for EUV and EB lithography

EUV 和 EB 光刻抗蚀剂聚合物中的电荷动力学

• 发表时间: 2010
• 作者: M. Nunami;T.-H. Watanabe;H. Sugama;K. Tanaka;Kazumasa Okamoto
• 通讯作者: Kazumasa Okamoto

Deprotonation mechanism of poly(styrene-acrylate)-based chemically amplified resist

聚(苯乙烯-丙烯酸酯)基化学放大型抗蚀剂的去质子化机理

• 发表时间: 2011
• 期刊: Proceedings of SPIE
• 作者: N.Miyato;Yasuharu Tajima
• 通讯作者: Yasuharu Tajima

極端紫外自由電子レーザーによる電子線レジストへのエネルギー付与

使用极紫外自由电子激光向电子束抗蚀剂提供能量

• 发表时间: 2011
• 作者: 間所寛;石渡祐樹;川上俊弘;及川敬太
• 通讯作者: 及川敬太

Dynamics of radicalcation of poly(styrene acrylate)-based chemically amplified resist for extreme ultraviolet and electron beam lithography

用于极紫外和电子束光刻的聚（苯乙烯丙烯酸酯）基化学放大型抗蚀剂的自由基动力学

• 发表时间: 2011
• 期刊: Japanese Journal of Applied Physics
• 影响因子: 1.5
• 作者: Y. Narushima;F. Castejon;S. Sakakibara;Yasuharu Tajima
• 通讯作者: Yasuharu Tajima